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时间:2018-08-08
《直流磁控溅射制备tin_xo_y薄膜的性能研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库。
1、------------------------------------------------------------------------------------------------直流磁控溅射制备TiN_xO_y薄膜的性能研究第45卷第1期真空2008年1月VACUUMVol.45,No.1Jan.2008直流磁控溅射制备TiNxOy薄膜的性能研究*陈尔东,王聪,杨海刚,朱开贵(北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心,北京100083)摘要:利用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了TiNxOy薄膜样品,研究了溅射过程中电
2、压与N2流量之间的迟滞效应,通过X射线衍射(XRD)、四探针电阻仪等测试手段表征UV-Vis分光光度计、了样品的物相、光吸收谱、电阻等性能。结果表明:随着N2含量的提高和薄膜厚度的增加,XRD显示薄膜样品出现明显的衍射峰,吸收光谱向可见光方向展宽至500nm,电阻随着N2含量的提高呈逐渐下降的趋势。关键词:TiNxOy;直流磁控溅射;迟滞回线;吸收光谱中图分类号:TB43;O484文献标识码:A——————————————————————————————————————----------------------------------
3、--------------------------------------------------------------文章编号码:1002-0322(2008)01-0060-04PropertiesofTiNxOyfilmspreparedbyDCmagnetronsputteringCHENEr-dong,WANGCong,YANGHai-gang,ZHUKai-gui(CenterofCondensedMatterandMaterialPhysics,BeihangUniversity,Beijing100083,China
4、)Abstract:TiNxOythinfilmswerepreparedonglasssubstratesbydirectcurrent(DC)magnetronsputtering.ThehysteresiseffectobservedinbetweenthesputteringvoltageandN2flowratewasstudied.Thecrystallinestructures,opticalandelectricalpropertiesofthesamplefilmswerecharacterizedbyX-raydif
5、fractionfor500nminvisiblelightdirectionwithincreasingN2flowrate.(XRD),UV-Visspectrophotomete——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------randfour-probevoltmeter.Theresultsshowedthatt
6、hediffractionpeaksbecomeclearerandtheabsorptionspectrumedgeofthinfilmsextendsincreasingN2flowrateandfilmthickness,whiletheresistivitydecreaseswithKeywords:TiNxOy;DCmagnetronsputtering;hysteresisloops;absorptionspectrum由于TiNxOy有特殊的光学、电学性质,突出的机械性能和化学稳定性,在过去的几年里,引起科研工作者的高度重
7、视并对其进行了广泛的研究[1 ̄4]。物理气相沉积被认为是制备TiNxOy薄膜最佳的方法之一,这种方法实现了N、O比例的可调,并使在相对低的沉积温度下制备高或低密度、大面积的均匀薄膜成为可能[5 ̄6]。但是反应溅射的成膜过程与众多的工艺参数有关,研究其相互关系至关重要。例如“迟滞回线”就是一个至今研究还不十分深入,但又严重影响反应溅射技术应用和成膜质量的物理现象[7]。本文中,我们利用直流磁控溅射技术,用分析讨论。1实验——————————————————————————————————————----------------------
8、--------------------------------------------------------------------------溅射沉积实验是在沈阳真空仪器厂生产的JGP-350C型超高
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