igbt及其子器件的四种失效模式

《igbt及其子器件的四种失效模式》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。

1、IGBT及其子器件的四种失效模式比较时间：2011-12-1119:31:32来源：作者：刘鹿生 1、 引言IGBT及其派生器件，例如：IGCT，是MOS和双极集成的混合型半导体功率器件。因此，IGBT的失效模式，既有其子器件MOS和双极的特有失效模式，还有混合型特有的失效模式。MOS是静电极敏感器件，因此，IGBT也是静电极敏感型器件，其子器件还应包括静电放电（SED）防护器件。据报道，失效的半导体器件中，由静电放电及相关原因引起的失效，占很大的比例。例如：汽车行业由于失效而要求退货的器件中，其中由静电放电引起

2、的失效就占约30%。本文通过案例和实验，概述IGBT及其子器件的四种失效模式：（1）      MOS栅击穿；（2）      IGBT——MOS阈值电压漂移；（3）      IGBT寿命期内有限次连续短路脉冲冲击的累积损伤；（4）      静电放电保护用高压npn管的硅熔融。2、 MOS栅击穿IGBT器件的剖面和等效电路见图1。由图1可见，IGBT是由一个MOS和一个npnp四层结构集成的器件。而MOS是金属—氧化物—半导体场效应管的简称。其中，氧化物通常是硅衬底上氧化而生成的SIO2，有时还迭加其他的氧化

3、物层，例如Si3N4，Al2O3。通常设计这层SiO2的厚度ts：微电子系统：ts<1000A电力电子系统：ts≥1000A。SiO2，介质的击穿电压是1×1019V/m。那么，MOS栅极的击穿电压是100V左右。人体产生的静电强度U：湿度：10-20%，U＞18000V；60-90%时，U≥1500V。上述数据表明，不附加静电保护的MOS管和MOS集成电路（IC），只要带静电的人体接触它，MOS的绝缘栅就一定被击穿。案例：上世纪六十年代后期，某研究所研制的MOS管和MOS集成电路。不管是安装在印刷电路板上还是存

4、放在盒中的此种器件，都出现莫名其妙的失效。因此，给MOS一个绰号：摸死管。如果这种“摸死”问题不解决，我国第一台具有自主知识产权的MOS集成电路微型计算机就不可能在1969年诞生。经过一段时间的困惑，开始怀疑静电放电的作用。为了验证，准备了10支栅极无任何防护的MOS管，用晶体管特性测试仪重新测试合格后，即时将该器件再往自己身上摩擦一下再测特性，结果发现：100%栅击穿！随后，在MOS管的栅极一源极之间反并联一个二极管，问题就基本解决。意外的结果：“摸死管”成了一句引以为戒的警语。该研究所内接触和应用MOS管MO

5、S-IC的同事，对静电放电对器件的破坏性影响都有了深刻的体验。3、 IGBT——MOS阈值电压漂移——一种可能隐藏的失效模式MOS管的阈值电压Vth的方程式：              （1）式中VSS=表面态阈值电压，Vhh=本征阈值电压，常数(费米势)，N=硅衬底杂质浓度。图2是栅电压VG和栅电容CO的C—V曲线，曲线上的箭头表时扫描方向。 由图2可见。C—V曲线是一条迟滞回路，该回路包络的面积等于表面态电荷，QSS是由Si—SiO2界面缺陷和正电荷离子引起的。而且，Si—SiO2界面的QSS始终是正的。即V

6、SS总是向VITH正向移动。这就决定了沟增强型MOS管和P沟数字集成电路容易实现。为了减小QSS和防止SiO2——Si界面电荷交换与移动，引起阈值电压漂移，采取了许多措施：（1）      将<111>硅衬底换为<100>硅衬底，减小硅表面的非饱和键；（2）      制备工艺中使用的石英器皿，气体和化学试剂均提升纯度级别，尽量减小Na离子的污染含量；（3）      研发新的绝缘栅介质系列：·Si3N4——Si，Si3N4——SiO2——Si；·Al2O3——Si，Al2O3——SiO2——Si。   以上措施

7、，对低压微功耗的微电子的应用，已证明MOS与MOSIC是可靠的。但是对于电力电子应用的场合：高电压，大电流和工作温度范围较宽。特别是，静电放电电压接近栅极击穿电压而又未穿栅极时，例如上文所示接近100V时，仍有隐忧：（1）      较高栅电压下，阈值电压漂移较大，图3示出P沟硅栅MOS在高栅电压下的。由图3可见，栅电压VG=40V时，=4V。（2）      PT—IGBT在高温栅偏压下阈值电压漂移。图4给出PT—IGBT（IRG4BC20F）在（1）栅已射极Gge=20V，Vce=OV（HTGB）和（2）Vg

8、e=0V，Vce=0.8V(HTRB)在140℃，经过1200小时的应力试验结果。由图4中的HTGB曲线可见，栅偏置试验开始后100小时内，时线性增加，随后趋于稳定。（3）      电可擦只读存贮器（electricallyerasableread-onlymemory，简称EEROM）的存贮单元是氮化硅（Si3N4）—二氧化硅(SiO2)构成的双层绝缘栅的MOS管，它