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1、一、無塵室基本概念1-1無塵室之定義無塵室(Cleanroom)Cleanroom：將空氣微粒子(AirboneParticulate)、溫度、濕度、室壓、靜電、氣流、風速、振動、噪音、照明及微生物等控制在某一規定值內的特定房間，以往被稱CleanRoom。1-2無塵室之規範等級之起源1961年美國Sandia公司首創層流(Laminarflow)清淨室，得到前所未有之清淨環境， 對當時美國之APOLO太空計劃有極大的幫肋，此後清淨室技術才逐漸被高科技工 業所採用，因而發覺有制定清淨室規格與標準之必要。終於在1963年訂
2、定美國聯邦規範#209。此規範中將清淨度等級分為100、10000及100000三級，並定清淨度 之測試方法、氣流方式、室壓及溫濕度等。其後分別於1966年、1973年、1987年、1988年和1992年，陸續修訂為209A、209B、209C、209D、209E。东莞市泰创净化工程有限公司31表1-1美國FS-209D規範重點等級微粒子壓差溫度相對濕度風速照度粒徑μm數目個/ft3InAq(mmAq)F(℃)RH%FPMM/s(換氣數)燭(Lux)1≧0.5≦1≧0.05即≧1.27mmAq無特殊指定時72℉±5℉即2
3、2.2℃±2.8℃無特殊指定時55±5層流次90FPM±20%即0.45m/s±20%亂流式≧(20次/時)500∣600LUX10≧0.5≦10100≧0.5≦1001,000≧0.5≦1,00010,000≧0.5≦10,000≧5≦65100,000≧0.5≦100,000≧5≦700表1-2FS–209E清淨度等級(1992年)粒徑大小≧0.1μm≧0.2μm≧0.3μm≧0.5μm≧5μm微粒子數個/m3個/ft3個/m3個/ft3個/m3個/ft3個/m3個/ft3個/m3個/ft3SI制級英制級M13509
4、.9175.72.1430.90.87510.00.283--M1.51124035.02657.501063.0035.31.00--M2350099.175721.43098.751002.83--东莞市泰创净化工程有限公司31M2.51012400350265075.0106030.035310.0--M3350009917570214309087.5100028.3--M3.5100--26500750106003003530100--M4--7570021403090087510000283--M4.51000
5、------3530010002477.00M5------10000028306187.15M5.510000------35300010000247070.0M6------1000000283006180175M6.5100000------353000010000024700700M7------10000000283000618001750表1-3 FS-209D與JIS－B－9920清淨度等級對照表A.FS－209D：以0.5μm粒子(個/ft3)為基準。()內者之單位為：個／m3粒徑等級1101001,00
6、010,000100,000≧0.135（1,225）350(12,250)≧0.27.5(263)75(2,630)750(26,300)≧0.33(105)30(1,050)300(10,500)≧0.51(35)10(350)100(3,500)1,000(35,000)10,000(350,000)100,000(3,500,000)东莞市泰创净化工程有限公司31≧5.0770700FS之1級=JIS之3級粒徑等級12345678≧0.1101102103104105106107108≧0.22242362360
7、23,600≧0.31101011,01010,100101,0001,010,00010,100,000≧0.5353503,.50035,000350,0003,500,000≧5.0292902,90029,000B.JIS－B－9920：以≧0.1μm粒子(個／m3)為基準。表1–4工業清淨室(ICR)之清淨度與適用分類產業別清淨度 清淨度(≧0.5μm，個／ft3)1 10 100 1,000 10,000100,000LSI製造工程LSI組立檢查工程(矽)單結晶照像光罩PhotoMask光阻塗膜Photo
8、resist一般液晶(TN,STN)顯示用液晶(TFT,MIM)投影用液晶(TFT)混合(hybrid)IC印刷基板材料东莞市泰创净化工程有限公司31印刷配線板電晶體、二極體精密電子部品磁頭磁碟電腦、磁碟裝置組立錄影帶、光碟照像底片光纖精密軸承光學鏡片半導體製造裝置清淨管及閥類LSI製造用化學藥品精密測定機製造清洗無
