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1、------------------------------------------------------------------------------------------------Al和Mn掺杂ZnO薄膜的结构和电学性质实 验 技 术 与 管 理第3ISSN100249563卷 第6期 2016年6月 CN112034T-ExerimentalTechnoloandManaement pgygVol.33 No.6 Jun.2016 :/DOI10.16791.cnki.s.2016.06.012 jjgAl和Mn
2、掺杂ZnO薄膜的结构和电学性质黄卫华1,贾历程2()1.广西机电职业技术学院,广西南宁 530007;2.广西大学实验设备处,广西南宁 530004、摘 要:采用磁控溅射方法在硅衬底上制备了纯ZnO薄膜和AlMn掺杂的ZnO薄膜。用X衍射和原子力显微镜分析了薄膜的晶化行为和显微结构,利用K掺eithle2400高阻计分析了薄膜的电学性质。结果表明,y )入A有很好的表面结构,显示强烈的(择优取向,呈现低的电阻率,可用作太l的ZnO薄膜有良好的晶化,002阳能电池的电极材料。关键词:ZnO薄膜;薄膜结构;电学特性()中图分类号:TB
3、383 文献标识码:A 文章编号:1002495620166004204---——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------,roertiesMicrostructureandelectricofAlMndoedZnOthinfilms -ppp12,HuanWeihuaJiaLichen g g(,;1.
4、GuanxiTechnoloicalColleeofMachinerandElectricitNannin530007,China gggyyg ,,N)2.DeartmentofLaboratorandEuimentManaementGuanxiUniversitannin530004,China pyqpggyg :,()AbstractTheureandAlMndoedZnOthinfilmswererearedonSi100substratesbr.f.manetron- - pppppyg roertiessut
5、terinatroomtemerature.TheeffectofAlandMndoinonstructuralandelectricalofZnO——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------ pppgppg filmsarediscussedonthiswork. :;KewordsZnOthinfil
6、m;thinfilm microstructureelectricroert ppyy 是一种宽禁带(ZnO)3eV) 氧化锌(~3.Ⅱ~Ⅳ族。Z半导体,具有六方晶体结构(纤锌矿型)nO薄膜是一种n型半导体,具有低的电阻率,在可见光区域具有高的透明度,可用于太阳能电池和平板显示器的透明激光器的半导体材料,电极。ZnO薄膜是紫外(UV)[]在室温下具有60meV1的激子束缚能及低的阈值。5],可以作为铁电材料和光电开关[而掺杂Mg可以作[]6],为量子井以及相关器件的材料[掺杂Pt和Pd4可以作为催化燃烧传感器。如溅ZnO薄膜可以
7、由各种不同的沉积技术制备,]789]10]-、、溶胶-凝胶法[脉冲激光[沉积、分子束外延射[[11]——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------(和有机金属化学气相沉积(等。MBE)MOCVD)其晶格高度匹配,ZnO与GaN具有相同的晶体结构,[]因此ZnO薄膜可以用作沉积高质量的GaN薄膜2的其中,射频磁控溅
8、射具有许多优点,如衬底温度要求不高,在衬底上可以沉积大面积的薄膜,并有良好的粘附性等。本文采用磁控溅射方法,在砖衬底上制备出纯、研究了微量掺ZnO薄膜和AlMn掺杂的ZnO薄膜,杂对Z进一步研nO薄膜的微结构及电学性质的影响,究了掺杂ZnO材料在太
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