单晶扩散型ldmos特性分析

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1、单晶扩散型LDMOS特性分析

2、第1lunadeofsinglecrystalispresented.IthasthecharacteristicofvariationlateraldopingandulatedbyMEDICI,tensionsimulatingdevicessoftizingthedopingconcentration,thesizeandthelocationofN-typediffusedregionandvariabledopingregion,abettertrade-offbetouseg

3、(this)">Fig.1LDMOS结构2器件结构器件结构如Fig.1所示,该结构采用了双RESURF技术,即在普通RESURF结构的N-降场层(N阱)上加入P-降场层,通过引入附加电荷有效地降低了LDMOS栅、漏两端的尖峰电场,使器件表面电场趋于均匀,既采用VLD技术可明显提高器件耐压。这里讨论的P-降场层分成P1和P2两个区,且P1的浓度低于P2的浓度,从而使P2区栅端的电场升高,P1区末端的尖峰电场降低。该结构的击穿主要发生在栅或漏端的器件表面,因此在栅、漏两端还采用了场板技术,从而进一步降低栅和漏端的电场,使

4、器件表面电场趋于均匀。当耐压为730V,器件击穿时表面及体内电场分布如Fig.2所示。500)this.style.ouseg(this)">3器件耐压分析及模拟结果3.1P衬底浓度和N阱浓度的确定P衬底和N阱浓度的选取对击穿电压的高低起着决定性的作用。各层掺杂浓度要严格遵循RESURF原理,以获得最大击穿电压。通过求解二维Poisson方程可以得到近似解[7],500)this.style.ouseg(this)">(1)二维方程简化成一维方程得500)this.style.ouseg(this)">(2)如Fig

5、.1所示,为满足RESURF和电荷中性原理,P-降场层,N阱和P衬底掺杂剂量分别为1E1012cm-2,2E1012cm-2和1E1012cm-2。当P衬底浓度过高时,N阱在结深不变的情况下其浓度要增大,此时器件击穿电压相应降低;而当P衬底浓度过低时,N阱浓度降低,器件击穿电压增大,但导通电阻也同时增大。因此,在选取器件参数时P衬底浓度有一优值。双降场层LDMOS的N阱浓度和结深是影响器件击穿电压的关键参数。当N阱浓度偏低时,LDMOS的漂移区容易耗尽,电场在漏侧集中,导致器件首先在漏区/N阱处击穿;当N阱浓度偏高时

6、,LDMOS的漂移区不容易耗尽,电场在P-降场层靠源区一侧集中,器件同样会过早击穿。所以通过调节N阱浓度使器件表面电场较为均匀,从而达到最大耐压,如Fig.2所示。3.2P-降场层浓度和长度的确定首先考虑P-降场层为均匀掺杂时其浓度与击穿电压的关系,模拟结果如Fig.3所示。当LDMOS漏端加高压时,器件表面P-层承受大部分电压,对于均匀掺杂的P-降场层结构,其P-层中电场分布不均匀,其靠栅端和漏端处的电场均比较高。若其浓度过低则很容易耗尽,器件过早在P-降场层靠栅端一侧击穿;反之若其浓度过高则不容易耗尽,器件过早在

7、其靠漏端一侧击穿。采用横向变掺杂技术(VLD)则有效地提高了器件击穿电压。该技术要求P-降场层的浓度从栅到漏逐渐降低,通过在器件表面引入负电荷,使表面电场在靠近栅端一侧提高,而靠近漏端一侧降低,从而使整个器件表面电场趋于均匀。在相同击穿电压下,变掺杂分布可有效地缩短LDMOS的漂移区长度,降低导通电阻。下列表中数据表明LDMOS击穿电压随降场层的P1、P2区浓度比例不同而变化。NA(P1)cm-38E10159E10158E10157E1015NA(P2)cm-38E10151E10162E10163E1016VBR

8、V620590730720500)this.style.ouseg(this)">P-降场层的长度和在漂移区中的位置对器件击穿电压也有很大影响。当P-降场层较短,降场层很快耗尽,器件过早在降场层靠源端一侧击穿;当该层较长时不容易耗尽,器件过早在降场层靠漏端一侧击穿,此时可将P-降场层/N阱/N+漏区视为一反偏的穿通型P-N-N+(PIN)二极管,如Fig.1所示,当L较小,即I区较短时,也使得器件容易在P-降场层靠漏端一侧过早击穿。模拟得P-降场层长度对器件击穿电压的影响如Fig.4所示。500)this.style

9、.ouseg(this)">Fig.4击穿电压与P-降场层长度的关系由于栅电极和金属场板的作用,在栅氧和场氧的连接处有尖峰电场,可使器件在该处过早击穿。为解决此问题,这里将P-降场层靠栅端延伸到此连接处,从而降低该处电场,提高器件的击穿电压。通过优化设计和借助MEDICI模拟软件的仿真,当P-降场层的长度为34mm,P1区和P2区的浓度分别为8

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