槽型SOI-LDMOS器件开关特性的研究.pdf

槽型SOI-LDMOS器件开关特性的研究.pdf

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1、masterdissertationaIso-论义题目ildmos器件开关特性的研究:槽型。*g.T.j隊,l^繼业’—..'羹mm国内图书分类号;TP386密级;公开国际图书分类号:621.38西南交通大学研究生学位论文槽型SOI-LDMOS器件开关特性的研究2014年级姓名變冬冬申请学化级别硕壬专业电路与系统指导老师陈向东二零一走年五月Class巧edIndex:TP386U.D.C:6

2、21.38SouthwestJiaotonUniversitgyMasterDereeThesisgAnInvestigationintoswitching-LDMOSdevcharacteristicsoftrenchSOIiceGrade:2014Candidate:FanDongdongAcademicDereeAliedfor:MasterDereeofEnineeringppgggSpeciality:Circui

3、tsandSystemsSuervisor:ChenXiandonpggMa2017y,西南交通大学学位论文版权使用授权书、本学位论文作者完全了解学校有关保留使用学位论文的规定,同意学校保留并向国家有关部口或机构送交论文的复印件和电子版,允许论文被査阅和借阅。本人授权西南交通大学可W将本论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可W采用影印。、缩印或扫描等复印手段保存和汇编本学位论文本学位论文属于1.保密□,在年解密后适用本授权书;2.不保密妇,

4、使用本授权书。""(请在W上方框内打V)?X^学位论文作者签名;增叫指导老师签名:- ̄',..。^P|:曰期:曰期11J!西南交通大学硕±学位论文主要工作(贡献)声明本人在学位论文中所做的主要工作或贡献如下;-SOI-LDMOS器件和延长漏槽型SOILDMOS器件的漂移区(1)研究了常规槽型-e、浓度、PWll浓度、栅氧厚度、槽深W及栅场板长度对导通电阻成。击穿电压BV和H者的影响-:延长漏槽型SOILDMOS器件相较于常栅漏电荷0cd,并得出W

5、下结论-52LDMOS器件击穿电压BV提高了.18%导通电阻成8.8%规槽型SOI;n降低了;栅41.7%.2%。漏电荷0GD提离了;优值FOM降低了25为下文如何降低栅漏电荷0GD的作下铺垫。一(2)利用降低器件栅极和漏极接触区域面积来降低器件栅漏电荷0GD这技术路-SO-线ILDMOS器件,分别是单场板延长漏槽型SOILDMOS,提出了两种带场板槽型SO-LDMOS器器件和双场板延长漏槽型I件。这两种器件有如下优点;单场板延长漏---LDMOS器件较常规槽型SOI

6、LDMOS器、延长漏槽型SOLDMOS器件槽型SOI件IOM〇长漏槽7.1/〇、45.9%和56.8%、42.2%栅漏电荷0GD和优值F分别降低;双场板延---型SOILDMOS器件较常规槽型SOILDMOS器件、延长漏槽型SOILDMOS器件栅〇〇〇漏电荷0GD和优值FOM分别降低77.2/〇、86.72%和85.7/〇、80.9/〇。:独立进行研究王作所得的成本人郑重声明所呈交的学位论文,是在导师指导下果。除文中己经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体

7、已经发表或撰写过的研究成果。。对本文的研究做出贡献的个人和集体,均已在文中作了明确说明一切法律责任将由本人承担本人完全了解违反上述声明所引起的。学位论文作者签.曰期:^、\叫^西南交通大学硕±研究生学位论文第I页摘要随着便巧设备的兴起、全球能源需求量的不断増长,如何提高资源的有效利用率将变得越来越重要。由于SOI-LDMOS功率器件具有速度快、集成度高、功耗小等优-LDMOS器件越来越广泛的用于功率转换开关电路点使得SOI。而如何降低影响SO-ILDMOS

8、器件开关时间的栅漏电荷&D将是本文的研究重点。SO--本文首先研究了常规槽型ILDMOS器件和延长漏槽型SOILDMOS器件的正向导通电阻与反向击穿电压。利用仿真软件Medici对栅漏电荷0GD、导通电阻成。、击穿电压BV与器件结构参数之间的关系进行仿真。通过仿真得出延长漏槽型〇SOkLDMOS器SO-件相较于常规槽型ILDMOS器件击穿电压SV提髙了52.18/〇导;通电阻化>。降低了8.8%;栅漏电荷化D提高了41.7%,进而对后文栅漏电

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