平面研磨抛光轨迹研究

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1、2009年4月航空精密制造技术Apr．2009第45卷第2期AVIATIONPRECISIONMANUFACTURINGTECHNOLOGYVol．45No．2综述平面研磨抛光轨迹研究*赵萍1，陶黎2，王志伟2，袁巨龙2,3(1.浙江工业大学教育科学与技术学院，杭州3100142.浙江工业大学机械制造与自动化教育部重点实验室，杭州3100143.湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心，长沙410082)[摘要]介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法，详细阐述了双轴式（包括定偏心式和不定偏心式）、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其

2、轨迹均匀性，指出了当前轨迹研究中存在的不足。[关键词]平面研磨；平面抛光；研磨轨迹；轨迹均匀性[中图分类号]TG580.68[文献标识码]A[文章编号]1003-5451（2009）02-0001-06ReviewonTraceofPlaneLapping/polishing122ZHAOPing,TAOLi,WANGZhi-wei,etal（1.CollegeofEducationalScience&Technology,ZhejiangUniversityofTechnology,Hangzhou3100142.MOEKeyLaboratoryofMechanicalManu

3、factureandAutomation,CollegeofMechanical&ElectricalEngineering,ZhejiangUniversityofTechnology,Hangzhou3100143.NationalEngineeringResearchCenterforHighEfficiencyGrinding,Changsha410082）[Abstract]Thetraceofplanelapping/polishingisreviewed,involvingsinglesideanddoublesidelapping/polishingmode.Th

4、eformerincludesseveraltypesoftwo-axle(certainanduncertaineccentricity),linear,oscillating,computer-controlledsmalltoolandthelatterisplanetarylapping/polishingmode.Theresearchmethodofthetraceuniformityofplanelapping/polishingisdescribed,andthemathematicalfunctionandtheuniformityoftraceforlappi

5、ng/polishingmodesmentionedabovearediscussed,andthedeficiencyofthecurrenttracestudyisanalyzed.[Keywords]planelapping;planepolishing;lappingtrace;traceuniformity引言粒为加工介质。研磨通常作为抛光加工的前道工序，提高工件的面形精度并在一定程度上降低表面粗糙当前超精密加工技术，以不改变工件材料物理度，抛光将进一步使工件表面粗糙度降低，提高表面特性为前提，以获得极限的形状精度、尺寸精度、表完整性（一般认为抛光不能提高面形精度）。按

6、被加面粗糙度、表面完整性（无或极少的表面损伤，包括工表面形状，研磨抛光可分为平面和非平面（包括球微裂纹等缺陷、残余应力、组织变化）为目标，是航空面、非球面、自由曲面等）两类。平面研磨抛光技术航天、武器国防、光电信息等尖端技术产业的重要支在光学窗口、半导体集成电路、计算机磁盘/光盘基[1]撑。研磨抛光是超精密加工的重要手段，以微细磨片等产品的加工中有广泛应用。平面研磨抛光轨迹*国家自然科学基金重点资助项目（50535040）·1·平面研磨抛光轨迹研究*即加工过程中磨粒与工件的相对运动轨迹，包含两双轴式平面研磨设备结构如图1所示，加工过个方面：一是磨粒相对工件的运动轨迹，二是工件相程

7、中工件和研磨盘分别绕各自中心轴旋转。根据工对工具盘的运动轨迹。相应轨迹均匀性的意义分别件轴心与研磨盘轴心的距离在加工过程中是否发生体现在：保证工件表面各点有相同的材料去除概率，变化，又可分为定偏心和不定偏心两类。保证工具盘均匀磨损。两个方面都与研磨抛光质量关系密切。本文从磨粒相对工件的运动轨迹角度，对平面研磨抛光轨迹研究进行综述，叙述了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法，重点阐述了单面、双面平面研磨抛光轨迹，其中单面研磨抛光包括双轴式、直线式、轨道式、计算机控制小工具式等形式，从研