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时间:2020-04-05
《平面研磨中磁粒刷运动轨迹规划的试验研究.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、机械设计与制造第10期MachineryDesign&Manufactm’e2015年1()川平面研磨中磁粒刷运动轨迹规划的试验研究焦安源,全洪军,邹艳华。(1.辽宁科技大学应用技术学院,辽宁鞍山114051;2.辽宁科技大学机械丁程自动化院,j:微1II1I4(151;3.宇都宫大学大学院工学部,日本宇都宫321—8585)摘要:在磁力研磨工艺中,磁粒刷的运动轨迹直接影响工件的表面精度和均匀性.在自行设计的试验装置上,通过施加公转运动方式优化磁粒刷运动轨迹并进行试验研究,对研磨前后工件的表面粗糙度、横截面形状及31)微观形貌等进
2、行检测与对比。结果表明:优化研磨轨迹后,表面质量和平面均匀性均较传统工艺有不同程度的提高,且当磁粒刷公转半径大于自转半径时效果最好。另外,还建立了研磨粒子的轨迹表达式,通过Graph软件对轨迹仿真分析,与试验结果相一致,因此可以针对工件形状和表面质量要求,预先规划合理研磨轨迹。关键词:磁力研磨;磁粒刷;均匀性:表面质量中图分类号:TH16;TH580.68文献标识码:A文章编号:1001—3997(2015)10—0084—04ExperimentalStudyonPlanningtheTrajectoryofMagneticAb
3、rasiveBrushinPlaneFinishingJIA0An—yuan,QUANHong-jun,ZOUYan—hua1.SchoolofAppliedTechnology,UniversityofScienceandTechnologyLiaoning.LiaoningAnshan114051,China;2.Scht,tofMechanicalEngineeringandAutomation,UniversityofScienceandTechnologyLiaoning,LiaoningAnshan1I4(15IChi
4、na;3.FacultyofEngineering,GraduateSchoolofEngineering,UtsunomiyaUniversity,Utsunomiya32卜8585,Japan)Abstract:Inthemagneticabrasivefinishing(MAF)process.thetrajectoryofmagneticabrasivebru.sh(MAI{)(1it“IIyq[ti.'tsthesu(aceprecisionandhomogeneity.Theexperimentalstudyiscon
5、ductedbasedonanewlyselJ~tesignedexperintentdevicethroughattachingrevolutionmotiontoMABtooptimizethetrajectory.Thesurf(Iceroughness,cross-sectionalshapeaml311micro-morphologyaredetectedandcontrastedafterpolishingTheresuhs$howthat:theplanehomogeneityandquditytireimprove
6、dinvaryingdegreesafteroptimizingthepolishingtrajectoryandtheeffectisthebestWhentiterevolutionradiusislargerthanrotationradius.Inaddition,thetrajectoryexpressionofmagneticabrasiveparticles(MAP)isestablished,andthPtrt~ector)issimulatedbyGraph$oftware,whichisconsistentwi
7、ththeexperimentalresults.ThereJbre,thepolishingtrisectors"CallbereasonableplannedpreviouslyaccordingtotherequirementsofworkpieceprofileandSuFf~Iceq“(dity.KeyWords:MagneticAbrasiveFinishing;MagneticAbrasiveBrush;Homogeneity;SurfaceQuality1引言方案带有研磨轨迹单一、加1-效率低等缺点为r捉离J麝殳串
8、并改善表面质量,文献研究了电解磁力研廉T艺,将磁力研慵随着装备制造业的日益发展,在模具、汽车、航空和航天等艺与电化学工艺相结合,以完成对平的光整加l1‘,提高了设率,领域对平面的表面粗糙度、平面度和加工纹理等相关技术要求不降低了表面粗糙度,但电解液
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