近场全息制作软x射线衍射光栅的相关问题研究

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2、射线巧射光棚＃的相关问题研究作者姓名：李媛芳学科专业：核科学与技术导师姓名：刘颖副研究员完成时间—：二〇六年五月＃论义Ｘ作得到中徳科学基金研化交流中心中愧合作研究项ＨＨＺ９８３。（项５：Ｇ）的资助ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙｏｆＣｈｉｎａ’Ａｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎｆｏ「ｍａｓｔｅｒｓｄｅｒｅｅｇ參Ｂａｓ－ｒａｉｃｉｓｓｕｅｓｏｎｓｏｆｔＸｙｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎｇｒａｔｉｎｇｓｕｓｉｎｇ＃

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4、明所呈交的学位论文，是本人在导师指导下进行研究工作所取得的成果，论文中不包含任何他人已经发表或。除己特别加标注和致谢的地方外撰写过的研究成果一。与我同工作的同志对本研究所做的贡献均己在论文中作了明确的说明。－作者签名；如！束签字日期：如／占中国科学技术大学学位论文授权使用声明一作为申请学位的条件之，学位论文著作权拥有者授权中国科学技术大学拥有学位论文的部分使用权，目Ｐ；学校有权按有关规定向国家有关部口或机构送交论文的复印件和电子版．允许论文被查阅和借阅，可Ｗ将学位论文编入《中国学位论文

5、全文数据库》等有关数据库进巧检索，可Ｗ采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。本人提交的电子文档的内容和纸质论文的内容相一致。保密的学位论文在解密后也遵守此规定。公开□保密（年）：作者签名：表游导师签名Ｍｌｔ〇：２化ｋ签字日期签字日期：摘要作为光谱仪器的核也元件，各种软Ｘ射线衍射光栅在同步福射、等离子体诊断、电子束离子阱等应用中发挥着重要作用。针对目前机械刻划和全息光刻技术制备软Ｘ射线衍射光栅中存在的问题，与电子束光刻相结合的近场全息将一Ｘ是种颇具潜力的

6、制作软射线衍射光栅的方法。本文主要研充了与软Ｘ射线变间距光栅的近场全息制作方法相关的两方面基本问题：从对两种近场全息界面反射抑制方法的比较研巧；Ｌ乂及线密度对烙石英光栅掩模效率对比度均匀性的影响、Ｗ及近场全息工艺参数优化两方面，研究近场全息制作光刻胶变间距光栅槽形轮廓均匀性的有效控制。１．界面反射是近场全息中降低光刻胶光栅质量的重要影响因素，由界面反射导致的杂散光将严重影响光栅线密度的测试精度及光栅质量。因此，比较界面反射抑制方式对近场全息制作光栅特性的影响，选择合适的界面反射抑制方式，是系统

7、研究近场全息巧石英掩模与光刻胶光栅线密度相互关系的基础。本文Ｗ２４００线／ｍｍ等间距的烙石英掩模为例，从制作光刻胶光栅的远场衍射光Ｘ－２０ｎｍ斑、ｔ及ＬＵ此为掩模制作的锭金光栅在５波段的衍射效率两方面，比较研究了减反膜和折射率匹配液两种抑制界面反射方式，对近场全息制作光栅特性的影响，。实验结果显示这两种在抑制近场全息界面反射的效果基本相当。在抑制界面反射水平相当的条件下，减反膜法在降低近场全息曝光过程的复杂性和可控性上优于折射率匹配液法。抑制界面反射显著降低了光栅在软Ｘ射线波段的杂散光。２

8、、．针对变间距光栅的近场全息制作方法，Ｗ中屯线密度为２４００线／ｍｍ的炼石英变间距光栅掩模为例，根据严格稱合波理论模拟计算了烙石英掩模的效一率对比度随光栅线密度和占宽比的变化轮廓图，结合般全息对掩模效率对比度的经验要求，给出中也线密度为２４００线／ｍｍ的烙石英变间距掩模的设计参