bsn2a锡铜合金电镀工艺

bsn2a锡铜合金电镀工艺

ID:33656374

大小:708.81 KB

页数:5页

时间:2019-02-28

bsn2a锡铜合金电镀工艺_第1页
bsn2a锡铜合金电镀工艺_第2页
bsn2a锡铜合金电镀工艺_第3页
bsn2a锡铜合金电镀工艺_第4页
bsn2a锡铜合金电镀工艺_第5页
资源描述:

《bsn2a锡铜合金电镀工艺》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、BSn一2A锡铜合金电镀工艺丁运虎1,周玉福2毛祖国1,何杰1,马爱华1(1.武汉材料保护研究所,湖北武汉430030;2.苏州隆孚表面工程有限公司,江苏苏州215000)摘要:开发了无铅BSn一2A锡铜合金电镀工艺.通过赫尔槽试验和电镀工艺试验确定了甲基磺酸、二价锡离子、二价铜离子、添加剂、络合剂、温度和电流密度工艺范围。检测了镀液和镀层性能,结果表明,镀液稳定,分散能力和覆盖能力良好,电流效率高;镀层附着强度高,铜含量稳定,可焊性符合GB/T16745要求,双85试验1500h后无锡须。关键词:锡铜合金;电镀;工艺ProcessofBSn-2Atin-copperall

2、oyelectroplatingDINGYun—hul,ZHOUYu—fu2,MAOZu-gu01,HEJiel.MAAi—hual(1.WuhanResearchInstituteofMaterialsProtection,Wuhan430030;2.LongfuSurfaceEngineeringCo.LtdofSuzhou,Suzhou215000)Abstract:ABSn-2Atin-copperalloyelectroplafingoflead-freewasdeveloped.Theprocessconcentrationincludingmethylsulp

3、honicacid,bivalenttinion,bivalentcopperion,additive,complexagent,runningtemperatureandrunningcurrentdensityWasdeterminedbyHullCelltestsandelectroplatingprocesstests.Thepropertiesoftheeleetroplatingbathesandthedepositswerealsomeasured.Theresultsshowedthattheelectrolytehadadvantagesofhighsta

4、bilization,excellentdispersingpowerandcoveringcapacity嬲wellashishcurrentefficiency.’l'hedeposithadqualityadhesivestrength,stable‘。oppercontent,thestandardofGB/T16745,and"afteratwin一85一testof1500hnotinwhiskersappeared.Keywords:tin—·coppercopper;electroplating;process前言虽然Sn—Pb合金镀层具有优良的可焊性、耐蚀

5、性,不会产生锡须,熔点较低,镀层外观良好,溶液易于管理等优点.广泛地应用于电子电镀。但随着近年来人们对健康和环境问题越来越重视。铅的危害性也逐渐为大众所了解。因而世界各国不断颁布日趋严格的法令来限制电子产品中铅的应用,这其中欧盟和日本都已经严格限制了铅的使用年限,我国也颁布了相应的法规。因此,自20世纪90年代后期至今,国内外电镀工作者都在积极开发替代锡铅电镀的无铅电镀工艺。目前取代Sn—Pb的电镀工艺主要有纯锡、Sn一cu、sn—Bi、Sn—Ag、Sn—Zn等工艺。与其它工艺相比,Sn—Cu合金电镀工艺成本低,不污染流焊槽,维护方便;镀层中铜含量易于控制,并具有良好的加工

6、成型和弯曲加工性能It],在工业上具有广泛的推广前景。针对这种情况,我们成功开发了BSn一2A锡铜合金电镀工艺,并在生产中逐步推广应用。1.试验1.1仪器HL—IOATM型HullCell试验仪DJH—D型电解式测厚仪CHl660B电化学系统101—3型电热鼓风干燥箱GDS一1130型高低温湿热试验箱X—RAY荧光光谱仪JSM一5510电子扫描电镜分析天平1.2主要药品甲磺酸亚锡[Sn(CH3SO,)2]含sn2+约3009/L,.黜.甲基磺酸(CH3SO,H)70%水溶液,约9459/L,各种表面活性剂(分析纯)。1.3方法[2]用HullCell试验测定工艺参数影响,H

7、ullCell试验测定分散能力和覆盖能力,铜库仑计法测定阴极电流效率;金相显微镜测试镀层表观形貌,X—RAY荧光光谱仪测试铜含量,双85试验检测锡须。2.结果与分析2.1络合剂组成锡的标准电位为一0.136V.而铜的标准电位为0.337V,二者标准电极电位相差0.473V,远远超过合金共沉积电位差的临界值,因此从它们的酸性单盐溶液中无法共沉积出锡铜合金。同时,镀液中游离状态的Cu“。遇到Fe、Ni等比铜电位较低的金属基材时,Cu:+离子置换析出,使得镀层结合力很差;同时若使用纯锡阳极,铜也会在锡阳极置换析出,导致阳

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。