干涉空间相位光刻对准方法研究

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1、万方数据O显徽、测量、徽细加工技术与设备Microscope，Measurement，Microfabrication＆Equipment—22222—2222e；222。。2222222。—52—222。2222。22。一干涉空问相位光刻对准方法研究马平，胡松，周绍林，徐文祥(中国科学院光电技术研究所，成都610209)摘要：介绍了一种适合高分辨力接近／接触式光刻的新型纳米级光刻对准方法。简要阐述了该对准方法的基本原理，探讨了应用该对准方法的光学结构设计，提出了照明光路与干涉条纹捕获光路的垂直设计，采用单色非曝光光源远心照明方式并外

2、加补偿光路的结构设计。在软件处理方面，提出采用九点四线曲面拟合面阵CCD细分方法及最小二乘曲线拟合定位方法，实现光刻对准精度的进一步提高。该光刻对准方法能够克服现有对准技术的诸多缺陷，具有纳米级对准精度，能够满足纳米光刻的对准需求。关键词：干涉空间相位对准；莫尔条纹；补偿光路；CCD细分；曲线拟合中图分类号：TN305．7；0436．1文献标识码：A文章编号：1671—4776(2010)10—0634—04ResearchontheMethodofInterferometric‘-Spatial_-PhasefortheAlignm

3、entofLithographyMaPing，HuSong，ZhouShaolin，XuWenxiang(InstituteofOpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China)Abstract：Anewnanoscalealignmentapproachforthehighresolutionproximity-contactlithogra—phyisintroduced．Thebasicprincipleofthemethodwasintroduc

4、edbriefly，thedesignofopticalstructurewasdiscussed，andtheverticaldesignfortheopticalpathofilluminanceandcaptureforinterferencefringeswereputforward．Themonochromeunexposuresource，thetelecentricIightmodeandthestructuredesignoftheopticalpathcompensatorwereadopted．Intermsoft

5、hesoftwaredisposal，itwasproposedthattheCCDsubdivisionbyninedotsandfourlinescurvefittingarea—scanandthelocalizationbyleastsquarescurvesimulationwereadoptedtoimprovethealignmentaccuracyofthelithography．Themethodcanovercomemanyshortcomingsofexistingalignmentmethodswiththen

6、anoscaleaccuracy，andcansatisfythealignmentneedofthenanoscalelithography．Keywords：alignmentofinterferometric-spatial—phase；Moir6fringes；opticalpathcompensator；CCDsubdivision；curvesimulationDOI：10．3969／1．issn．1671—4776．2010．10．010EEACC：2550G言随着纳米器件时代的临近，下～代光亥Ⅱ技术收稿日期：2010-

7、04—12基盒项目：国家自然科学基金资助项目(60706005)E-mail：mpioe@sina．COrn634MicronanoelectronicTechnologyV01．47No．10(NGL)如157am波长准分子激光光刻、极紫外光刻(EUVL)、电子束投影光刻(EPL)、离子束投影光刻(IPL)、X射线光刻(XRL)和纳米压印(k￡D如r2010万方数据马平等：干涉空间相位光刻对准方法研究技术(ML)等，已经成为国际微电子工业界的研究热点。同时由于光学光刻一次又一次地突破人们预言的分辨率极限，到目前为止还没有一种下一代光

8、刻技术有能力替代目前的光学光刻技术，这个问题一直困扰着整个产业界。此外，各种各样传统和非传统的微纳米加工技术的开发也在蓬勃地发展，一些独具特色的、分辨力可达100am以下的纳米光刻新技术，如干涉光刻技术、原子力光刻、表面