欢迎来到天天文库
浏览记录
ID:16310316
大小:21.63 KB
页数:9页
时间:2018-08-09
《波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法_冯伯儒》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库。
1、------------------------------------------------------------------------------------------------波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法_冯伯儒第31卷第2期光电工程Vol.31,No.22004年2月 Opto-ElectronicEngineeringFeb,2004文章编号:1003-501X(2004)02-0008-03 波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法冯伯儒,张锦11,2,郭永康2(1.中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,
2、四川 成都 610209; 2. 四川大学物理系, 四川 成都 610064) 摘要:激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长 的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四光束无掩模激光干涉光刻方法,提出了可用于五光束和多种多光束和多次曝光的梯形棱镜波前分割干涉光刻方法。用自行建立的梯形棱镜波前分割系统进行了多光束干涉曝光实验,得到孔尺寸约220nm的阵列图形。 关键词:干涉光刻;激光光刻;无掩模;波前分割 中图分类号:TN305.7 文献标识码:AImplementationMethodsforWave-
3、FrontDivisionin——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------MasklessLaserInterferencePhotolithographyFENGBo-ru1,ZHANGJin1,2,GUOYong-kang2(1.StateKeyLaboratoryofOpticalTechnologiesforMicrofab
4、rication,InstituteofOpticsandElectronics,ChineseAcademyofSciences,Chengdu610209,China;2.DepartmentofPhysics,SichuanUniversity,Chengdu610064,China)Abstract:Laserinterferencephotolithographywillnotlimitedbylightsourceandnumericalapertureofthetraditionalopticallithographicsystem.It
5、slimitedsizeCDhasattained1/4oftheexposurewavelength.Wave-frontdivisionmasklesslaserinterferencephotolithographywithdouble-beam,three-beamandfour-beamisstudied.Awave-frontdivisioninterferencephotolithographicmethodwithtrapezoidprismthatcanbeappliedtofive-beam,alotofmulti-beamandm
6、ulti-exposureisproposed.Multi-beaminterferenceexposureexperimentshavebeencarriedoutbyaselfestablishedwave-frontdivisionsystemwithtrapezoidprismandarraypatternswithabout220nmholesizehavebeenobtained.Keywords:Interferometriclithography;Laserlithography;Maskless;Wavefrontdivision引言
7、——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------传统光学光刻一般均采用掩模投影成像分步重复光刻技术产生IC图形。随着高集成度IC器件需求的不断增加,提高光刻分辨力就成为光刻的主要任务。目前采用波前工程光刻技术,如相移掩模(PSM)、离轴照明(OAI)、光学邻近效应校正(OPC)及光瞳滤波等已使光学光刻分辨力达到100nm左右,而且还在不
8、断往更小尺寸推进。但是采用透镜成像的光学光刻的分辨力受到曝光波长和成像系统数值孔径的限制,进一
此文档下载收益归作者所有