siβ-fesi2si异质结研究

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1、第30页目录摘要.................................................3Abstrct...............................................3第一章综述...........................................41.1引言...........................................41.2课题的研究意义..................................41.3国内外研究现状.......

2、..........................61.4Fe-Si化合物的基本性质...........................81.4.1Fe-Si化合物...........................................81.5Si/β-FeSi2/Si异质结的基本性质.....................101.5.1β-FeSi2的晶体结构....................................101.5.2β-FeSi2/Si的界面取向.......................

3、...........111.5.3β-FeSi2/Si的电子及能带结构............................111.5.4β-FeSi2/Si的掺杂、电学性质及输运性质..................12第二章样品制备......................................132.1引言..........................................132.2制备仪器简介...................................132.2.1磁控溅射仪.......

4、....................................132.2.2磁控溅射仪的原理和特点...............................142.2.3高真空退火炉...................................152.2.4冷却循环水系统.......................................152.2.5实验所需条件.........................................152.3样品制备........................

5、..............162.3.1衬底清洗.............................................162.3.2磁控溅射沉积Fe/Si膜.................................162.3.3热处理条件...........................................17第30页2.3.4Si/β-FeSi2/Si异质结的制备.............................18第三章热处理工艺对β-FeSi2的形成及结构的影响.........1

6、83.1引言..........................................183.2X射线衍射物相分析原理..........................193.3扫描电镜工作原理..............................193.4退火温度对β-FeSi2的形成及晶体结构的影响..........203.5退火温度对β-FeSi2的显微结构的影响................23第四章总结..........................................25致谢词.......

7、........................................参考文献.............................................第30页摘要本文采用直流磁控溅射法在Si(100)衬底上沉积厚度为900nm的纯铁薄膜，随后在真空退火炉中900－960℃退火15－60小时形成Fe-Si化合物。研究了退火条件对Fe-Si化合物的形成及结构的影响。采用X－射线衍射和扫描电子显微术对薄膜晶体结构和显微结构进行了表征。分析结果表明：薄膜中生成了各种物相的Fe-Si化合物，以及铁硅的氧化物，并且样品表面结

8、晶的晶粒随着温度的升高逐渐长大并融合在了一起。关键词：磁控溅射；热处理；X-射线衍射；扫描电子显微术。AbstractTheFefilmwiththicknessof900nmw