光栅工作原理.docx

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1、光栅分为3D立体光栅,光栅尺,安全光栅,复制光栅,全息光栅,反射光栅,透射(衍射)光栅.基本上都是由一系列等宽等间距的平行狭缝组成,在1毫米的长度上往往刻有N多条的刻痕。刻痕处不透光,未刻处透光,我们称之为透射光栅,另一种光栅是反射光栅,有些需要进行特殊的镀膜处理,根据这种阴阳效果演变出更多的图形镜,图案镜等,简单原理就像是手电筒对着手指投影到对面墙壁,看到的图形.只是一个是微光一个是宏光制做.犹如在发丝上雕刻,工艺的难易不同.最早的光栅是1821年由德国科学家J.夫琅和费用细金属丝密排地绕在两平行细螺丝

2、上制成的。因形如栅栏,故名为“光栅”。现代光栅是用精密的刻划机在玻璃或金属片上刻划而成的。光栅是光栅摄谱仪的核心组成部分,其种类很多。按所用光是透射还是反射分为透射光栅、反射光栅。反射光栅使用较为广泛;按其形状又分为平面光栅和凹面光栅。此外还有全息光栅、正交光栅、相光栅、炫耀光栅、阶梯光栅等。  (光栅尺)应用于:数控加工中心,机床,磨床,铣床,自动卸货机,金属板压制和焊接机,机器人和自动化科技,生产过程测量机器,线性产品,直线马达,直线导轨定位。  (立体光栅)应用于:印刷,展示,立体相片,具有立体效果

3、,通过角度或摆产生幻变,动画,缩放使图像列漂亮,已成为办公文具,家居装饰用户首选产品.  (全息光栅)应用于:商标防伪,印刷,光学仪器,激光演示等.  (反射光栅)应用于:大同小异,光学仪器等  (透射光栅)应用于:光学仪器,激光演示,激光玩具…等产品.    随着光栅刻划技术和复制技术进一步的提高,光栅已走出实验室,从工业到民用及玩具礼品都有光栅的影子,可能光栅进行控制电源开关,可以用光栅出来了的光点做防盗安全网(物体一碰到光线,马上报警),可以做十字架瞄准用,可以做水平线用,还可以做激光图形镜,要想做

4、什么图形就做什么图形.单片使用,有双片自转使用,有十几片旋转使用.只要合适的光源,光栅就会让光源变得更改多样和丰富.满足大家的爱好和需求.  任何一种具有空间周期性的衍射的光学元件都可以称为光栅,如果在一块镀铝的光学玻璃毛胚上刻划一系列等宽,等距而平行的狭缝就是透射光栅。如在一块镀铝的光学玻璃毛胚上刻出一系列剖面结构象锯齿形状,等距而平行的刻线这就是一块反射光栅。光栅刻划室的温度要求保持0.01—0.0313变化范围,光栅刻划机工作台的水平振动不超过1—3微米,光栅刻划室应该清洁,要避免通风带来的灰尘,光

5、栅刻划室的相对湿度不应超过60—70%。光栅毛胚大多应有学玻璃和熔融石英研磨制成.毛胚应该加工得很好,其表面形状和局部误差要求甚严。任何表面误差将使衍射光束的波前发生变形,从而影响成象质量和强度分布。  制造光栅的方法有机械刻划,光电刻划,复制方法和全息照相刻划四种。  机械刻划是古老方法,但可靠,间隙刻划技术比较成熟。但要刻划一块100X100mm的光栅(刻划机的刻划速度为15—25条/分)计算须要4个昼夜。因此要求机器、环境在长时间内保持精确恒定不变。  光电刻划就是利用光电控制的方法可以在某种程度上

6、排除光栅刻划过程中机械变动和环境条件改变所产生的各种刻划误差。它一方面提高了光栅刻划质量,另方面也能在一定程度上简化机械结构、降低个别零件的精度和对周围环境的要求。  光栅复制光栅刻划时间长和效率低,因此成本很高,不能满足光谱仪器的需求。目前复制法有二种:一次复制法就是真空镀膜法。二次复制法是明胶复制法。一次复制法是一次制成,而二次复制法是先复制母光栅的划痕,然后用该划痕印划在毛胚的明胶上。  二次复制的工艺比较烦琐,但需要设备和条件都比较简单,明胶法复制光栅质量是比母光栅差些。  一次复制法的工艺过程图

7、,  母光栅的基板和铝膜,涂上一层薄的硅油的清洁的母光栅水平地置于真空镀膜机中,镀一层1.5微米的铝膜。铝膜和硅油之间是便于使光栅分离。在铝膜上再涂一层粘结剂使铝膜能与复制光栅的基板牢固地结合,粘结剂用环氧树脂加咪唑(1:10)  刻制光栅的方法叫全息照相刻划法,其原理如下:二束相干光重叠会产生干涉条纹,其间距为D=λ/2sinα,其中入为光束波长,α为两束光干涉前的夹角。如激光的射出的相干光束,通过发散物镜和针孔,再经抛物镜反射后落人两块平面反射镜。由于平面镜和的反射使已分离的两束光成交于另一面,其交角

8、为2α。这两束光是相干的所以在正面产生干涉条纹,条纹的间距d。  若在面上放置一块予先涂上抗光蚀层的毛胚,则在蚀层获得干涉条纹的空间潜象,经显影后则在毛胚上获得干涉条纹的立体象(全息象),这就是透射衍射光栅。镀反射膜后可成为反射式衍射光栅。光栅的质量与膜层厚度同光栅常数之比例有关,与光栅毛胚的法线和两相干光束干涉前夹角的等分线是否一致有关,并与显影和曝光时间有关。  全息照相刻制具有以下优点  ①改变激光器的波长,可以制造整个

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