课题六形状和位置公差ppt课件.ppt

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1、第四章形状和位置公差与检测几何要素及其分类形状和位置公差的特征项目形状和位置公差的标注形状和位置公差带公差原则形状和位置公差的选择和检测形位公差基本内容：形位公差的概念与含义形位公差带的特性各种形位公差与公差带的特征形位公差在图样上的标注形位公差的含义与特性定义：形位公差是指实际被测要素对图样上给定的理想形状、理想位置的允许变动量。形状：圆内的区域、两同心圆间的区域、两同轴圆柱面间的区域、两等距线间的区域、两平行直线间的区域、圆柱面内的区域、两等距曲面间的区域、两平行平面间的区域、球面内的区域。（形状有9种）

2、特性：形状、大小、方向、位置。形状公差定义：形状公差是单一要素对其理想要素允许的变动量。涉及的要素是线和面，一个点无所谓的形状。种类：形状公差有直线度、平面度、圆度和圆柱度等四个特征项目。特征：形状公差只有大小和形状的要求，而没有方向和位置的要求，因此没有基准。直线度公差直线度公差用于控制直线和轴线的形状误差，根据零件的功能要求，直线度可以分为在给定平面内，在给定方向上和在任意方向上三种情况。在给定平面内的直线度在给定方向内的直线度任意方向上的直线度在给定平面内的直线度其公差带是距离为公差值t的两平行直线之间

3、的区域。如图所示,被测表面的素线必须位于轴向平面内，且距离为公差值0.02mm的两平行直线之间。在给定方向内的直线度当给定方向上，公差带是距离为公差值t的两平行平面之间的区域。如图是一个方向的示例，被测棱线必须位于箭头所指方向距离为公差值0.02mm的两平行平面内。在给定方向内的直线度当给定互相垂直的两个方向时，公差带是两对给定方向上距离分别为公差值t1和t2的两平行平面之间的区域。如图是两个方向的示例，棱线必须位于水平方向距离为公差值0.02mm，垂直方向距离为公差值0.1mm的两对平行平面之内。任意方向上

4、的直线度在任意方向上其公差带是直径为公差值t的圆柱面内的区域。如图所示，ød圆柱体的轴线必须位于直径为公差值0.04mm的圆柱面内，标准规定，形位公差值前加注“ø”，表示其公差带为一圆柱面内区域。平面度平面度公差带是距离为公差值t的两平行平面之间的区域。如图所示，被测表面必须位于距离为公差值0.1mm的两平行平面内。圆度圆度公差带是垂直于轴线的任一正截面上半径差为公差值t的两同心圆之间的区域。如图所示，在垂直于轴线的任一正截面上，实际轮廓线必须位于半径差为公差值0.02mm的两同心圆内。圆柱度圆柱度公差带是半

5、径差为公差值t的两同轴圆柱面之间的区域。如图所示，被测实际圆柱表面必须位于半径差为公差值0.05mm的两同轴圆柱面之间。位置公差定向公差1、平行度2、垂直度3、倾斜度定位公差1、同轴度2、对称度3、位置度跳动公差1、圆跳动公差2、全跳动公差基准的建立：单个基准时，由实际要素建立基准应符合最小条件。为了确定被测要素的空间方位，有时可能需要两个或三个基准。由三个基准互相垂直的基准平面组成基准体系，称为三基面体系。这三个平面按功能要求有顺序之分，分别称为第一基准平面，第二基准平面，第三基准平面。基准基准：是用来确定

6、实际关联要素几何位置关系的参考对象，应具有理想形状（有时还应具有理想方向）基准形式：基准点、基准直线（含基准轴线）和基准平面（含基准中心平面）分类：（1）单一基准：一个基准要素建立的基准；（2）公共基准：两个或两个以上同类基准要素建立的一个独立基准（3）三基面体系：与空间直角坐标系一致，规定互相垂直的基准平面构成一个基准体系——三基面体系公共基准：三基面体系：每两个基准平面的交线构成一条基准轴线；三条基准轴线的交点构成基准点；基准的体现：零件加工后，其实际基准要素不可避免的存在或大或小的形状误差（有时存在方向

7、误差）如果以存在形状误差的实际基准要素作为基准，则难以确定实际关联要素的方位。图4-22基准通常用形状足够精确的表面模拟基准要素可用刀口尺的刃口，平尺的工作面，平台和平板的工作面以及样板的轮廓面等实物体现，也可用运动轨迹来体现。刀口尺贴切直线实际线孔的基准轴线可用与孔成无间隙配合的心轴或膨胀式的心轴体现(A)；轴的基准轴线可用V形块来体现(B)；三基面体系中的基准平面可用平板和方箱的工作平面模拟体现(A)(B)形状或位置公差线轮廓度和面轮廓度有两种情况：无基准要求的和有基准要求的。故其公差带有大小和形状要求外

8、，位置可能固定，也可能浮动。无基准要求时，理想轮廓线（面）用尺寸并加注公差来控制，这时理想轮廓线（面）的位置是不定的（形状公差），有基准要求的理想轮廓线（面）用理论正确尺寸并加注基准来控制，这时理想轮廓线（面）的位置是唯一的，不能移动。（位置公差）线轮廓度面轮廓度定向公差关联被测要素对基准要素在规定方向上允许的变动量，特点：定向公差相对于基准有确定的方向，公差带的位置可以浮动；定向公差具有综合控制被