第十一章分散染料ppt课件.ppt

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1、第十一章分散染料§1引言§2分散染料的结构分类和商品加工§3分散染料的基本性质§4分散染料的化学结构染色性能§1引言分散染料是一类结构简单,水溶性低,在染浴中主要以微小颗粒成分散状态存在的非离子染料。一、分散染料特点结构简单,分子量小。分子中不含离子型水溶性基团,而含有一定量的极性基团。分散染料能钻入涤纶的无定形区,以范德华力、氢键和偶极引力与涤纶纤维结合。染色时采用较高的染色温度。二、化学结构分类1.偶氮型60%单偶氮占50%,主要有黄、红至蓝各种色泽。2.蒽醌型25%主要为红、紫、蓝。3.其它类10~15%硝基

2、型、甲川型及杂环类,大多为黄、橙和红色品种,其中杂环类近年来发展较快。三、应用分类我国沿用了瑞士Sandoz公司(牌号Foron)的分类方法,分为三类:①E型:分子量小,匀染性好,升华牢度差。(低温型)②S型:分子量大,匀染性差,升华牢度好。(高温型)③SE型:分子量较大,性能介于两者之间。(中温型)近年来发展的品种还有:PC型:适用于T/C印花,有良好的白底不沾色性能。RD型:专用与涤纶快速染色工艺。N型:分散剂系非离子型,适用于T/C混纺织物的同浴染色工艺。德司达(DyStar)公司生产的Resolin染料分为

3、:A型、B型、C型、D型四种类型,A型上染速度最快,D型上染速度最慢。捷利康(Zeneca)公司(原ICI公司)的Dispersol染料分为五类:A类升华牢度低,主要适用于醋酯纤维和锦纶;B、C、D适用于聚酯纤维,分别相当于低温、中温和高温类三种。P类则专用于印花。科莱恩公司的Samaron染料专用于染色,Polysynthren染料专用于印花。分散染料的冠称我国:分散瑞士山德士公司:Foron科莱恩公司:Samaron捷利康公司:Dispersol德司达公司:Resolin日本住友:Sumikaron日本化药:K

4、ayalonpolyesterForon以得色深、牢度好,适合染深色著称;Samaron色泽鲜艳,牢度好,染中、浅色品种较好。§2分散染料的结构分类和商品加工一、分散染料的结构分类(一)偶氮类1.单偶氮型:重氮组分偶合组分R11:吸电子基,一般为-NO2;R2、R3:H或吸电子基,如-NO2、-CN、-X、-SO2NH2等;R4:H或-OCH3、-OC2H5等(供电子基);R5:H或-NHCOCH3、-NHCOC2H5等(供电子基);R6、R7:H或-CH3、-OH、-OCOCH3(乙酰氧基)、-CN等。分散黄S-

5、2RFL分散红玉S-2GFL分散蓝S-BBLS2.双偶氮型结构通式为:其中:Ar为苯或萘或它们的衍生物。R为-H、-OCH3、-OH、-CH3、-Cl、-NO2等基团。R'为-H、-CH3、-OCH3、-NH2等基团。m、n为1~2。例如:分散黄RGFL的结构为:散利通黄5R的结构为:(二)蒽醌类蒽醌类分散染料可大致分为四类:分散蓝RRL分散桃红R3L分散蓝2BLN,由上面两种组分组成(4)带杂环蒽醌型分散染料分散翠蓝HBF(三)杂环类乙烯型苯并咪唑型硝基二苯胺型氨基萘酰亚胺型氨基萘醌亚胺型黄色橙色黄色黄色蓝色发展

6、中的分散染料:暂溶性分散染料可聚合的高分子分散染料溶剂型分散染料二、分散染料的商品加工分散染料最主要的加工工作是将染料充分研磨,选择适当的助剂(主要为分散剂)制成易于成高度分散和稳定悬浮液的染料商品。研磨时将染料、分散剂和其它助剂等与水混合均匀,配成浆状液,送入砂磨机进行砂磨,直到取样观察细度并测试扩散性能达到合格,然后喷雾干燥,再经混配、标准化,达到商品规格。商品分散染料必须满足分散性、细度及稳定性三个方面的要求。有许多分散染料商品是由几个染料混合而成。§3分散染料的基本性质一、溶解特性分散染料的结构中不含-SO

7、3H、-COOH等水溶性基团,而具有一定数量的非离子极型基团,如-OH、-NH2、-NHR、-CN、-CONHR等,使染料具有一定的微溶性。分子量大、含极性基团少的染料溶解度较低。增加温度是提高染料溶解度最简捷的方法,但各种染料之间差异较大。染料溶解度随分散剂浓度的增高而增大。二、结晶现象在染料溶解时,颗粒较小的染料优先溶解,而大颗粒的染料却会吸附从过饱和溶液中结晶出来的染料,结果使晶体逐渐增加。周期性的升温和冷却,会使这种现象不仅加速而且更为剧烈。在配制染液时,如果染液温度降低,容易变成过饱和状态,已溶解的染料有

8、可能析出或发生晶体增长。如果一种染料能形成几种晶型,则染料还会发生晶型转变,由较不稳定的晶型转变成较稳定的晶型。变成稳定的晶型后,一般染料的上染速率和平衡百分率都会下降。染浴中的分散剂能起到稳定作用,并能抑制染料晶体的增长。三、染色特性染色过程:首先分散染料在水中主要以微小颗粒成分散状态存在,且染料微小晶体、染料聚集体、分散剂胶束中的染料和染浴中的染料分子处

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