磁铁电镀工艺.doc

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1、钕铁硼电镀工艺钕铁硼电镀根据产品使用环境的不同而采用了不同韵电镀工艺，表面镀层也分为两大类，一类是镀锌，用于常规产品；另一类是镀镍，用于要求较高的产品。也有少数产品从整机需要出发而要求镀其他镀种的，比如镀合金、镀银等。  (1)镀锌 钕铁硼产品的镀锌采用先化学浸锌再镀锌的工艺。 ①化学浸锌 硫酸锌 35g／L 氟化钾 l0g／L 焦磷酸钾 l20g／L 温度 90℃ 碳酸钠 l0g／L 时间 40s ②氯化钾光亮镀锌 氯化钾 180---200g／L pH值 5．0～5．5 氯化锌 60～80g

2、／L 温度 室温 硼酸 25～35g／L 电流密度 l～2A／dm2 商业光亮剂 按说明书加入 ③镀后处理。经镀锌的钕铁硼制品一定要经过钝化处理，可采用低铬或三价锋、元铬钝化，然后经烘干后表面涂罩光涂料。彩色钝化的耐中性盐雾试验要求不低于72h。  (2)镀镍 钕铁硼镀镍实际上也是多层镀层，需要先预镀镍以后，再经镀铜加厚，然后表面镀光亮镍。    ①预镀镍硫酸镍   300g／L  pH值   4．O～4．5 氯化镍   50g／L  温度   50～60℃ 硼酸   40g／L  电流密度0．

3、5～1．5A／dm2 添加剂   适量  时间   5min ②焦磷酸盐镀铜加厚。作为中间镀层，尽管流行采用酸性光亮镀铜工艺，但是对于钕铁硼材料，进行加厚电镀不宜采用酸性镀铜，这是因为在强酸性镀液中，已经预镀了阴极镀层的多孔性材料会很容易发生基体微观腐蚀；为以后延时起泡留下隐患。比较合适的工艺是接近中性的焦磷酸盐镀铜。 焦磷酸铜 70g／L 光亮剂 适量 焦磷酸钾 300g／L pH值 8～8．5 柠檬酸铵 30g／L 温度 40～50℃ 氨水 3mL／L 电流密度 l～1．5A／dm2 ③光亮

4、镀镍 硫酸镍 300g／L 商业光亮剂 按说明书加入 氯化镍 40g／L pH值 3．8～5．2 硼酸 40g／L 温度 50℃ 低泡润湿剂 lmL／L 阴极电流密度 2～4A／dm2 对于需要其他表面镀层的钕铁硼材料，可以在完成中间镀层的铜加厚电镀后，再进行其他表面镀层的加工。有时为了增加镀层的厚度和可靠性，还可以在焦磷酸盐镀后再加镀快速酸性镀铜工艺，以获得良好的表面装饰性，再镀其他镀层会有更好的效果。进行这些电镀操作的要点是一定要带电下槽和中途不能断电，否则会回也孔隙中镀液的作用而对基体造成

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