北大牙体课件牙髓治疗3(学生).ppt

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1、第七节:根管治疗术 RootCanalTherapy第五篇1一、根管治疗的基本概念原理适应证第七节:根管治疗术2预防或治愈根尖周病一、基本概念第七节:根管治疗术RCT的原理机械预备化学预备严密充填 根管系统防止再感染+彻底清除病原刺激物3非感染根管(炎症活髓牙)摘除牙髓、机械成形机械清理、成形根管充填根管内封药根管充填冲洗感染根管(牙髓坏死牙)无菌原则一、基本概念第七节:根管治疗术RCT的原理彻底清创原则坏死牙髓 细菌及其毒物 感染的牙本质4一、基本概念1、各型牙髓病,无法保存活髓者 2、各型根尖周病 3、牙外伤后,不适于保存活髓者 4、牙周牙髓联合病变 5

2、、因修复治疗、外科手术需要摘除牙髓者第七节:根管治疗术RCT的适应证凡需进行牙髓治疗的患牙均首选根管治疗51.患牙没有功能及修复的价值 2.患牙缺少足够的牙周组织和骨的支持 3.患者全身情况不佳,无法完成治疗 4.患牙可疑为病灶感染的病源牙 5.患者不愿意接受根管治疗一、基本概念RCT的非适应证第七节:根管治疗术6髓腔进入根管预备根管消毒根管充填二、根管治疗的技术第七节:根管治疗术7(一)髓腔进入冠部预备进入髓腔(开髓)进入根管直线通道为根管的清理、成形和充填创造条件第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术8RCT开髓的原则1.开髓洞形与髓腔形态相适应Outlin

3、eform与髓室顶的大小和形状相似髓腔外形在牙冠面的投影第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术92.揭净髓室顶 保留髓室底和根管口的自然形态RCT开髓的原则第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术103.预备髓腔冠部 形成器械进入根管的直线通路RCT开髓的原则去除髓室侧壁的牙本质突起器械直线进入根管磨牙第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术114.尽量保留健康牙体组织RCT开髓的原则开髓洞形:充分暴露髓室的最小开髓洞口第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术直线通路牙体组织平衡121.研读术前X线片了解髓腔解剖情况 2.去尽龋坏组织及影响开髓路径的修复体 3.穿通髓腔,揭

4、净髓室顶 4.修整开髓洞形---髓腔的冠部预备 5.探查根管口的位置和分布 6.用小号file或reamer扩通根管,建立根管通路patencyRCT开髓步骤第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术13开髓根管预备根管消毒根管充填二、根管治疗的技术RootCanalPreparationCleaningandShapingtheRootCanalSystem14(二)根管预备根管清理Cleaning根管成形Shaping第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术消除根管内感染物质利于根管消毒和封闭15清除根管内容物和感染物质(二)根管预备根管清洁Cleaning器械预备

5、化学预备第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术机械去除炎症坏死牙髓及感染物质溶解带出感染物质杀灭感染物质16(二)根管预备根管成形Shaping器械预备根管充填根管清洁第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术根管呈一定形状根尖向根管口内径渐大有一定锥度有利于17非根尖周的急性炎症期■各型牙髓炎■慢性根尖周炎(二)根管预备第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术时机181.有确切的工作长度(workinglength)2.器械和药物限制在根管内,不超出根尖孔 3.使用化学药物进行根管冲洗4.不破坏根管和根尖狭窄部的形态和位置 5.根管的末端形成根充挡(apicalstop

6、)(二)根管预备第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术原则19(二)根管预备第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术目标(1)完善地清除根管系统的感染(2)根管预备成流畅的圆锥形(3)预备后的根管应保持根管和根尖狭窄部的原始形态和位置20去除炎症或坏死牙髓 ☆生活牙髓:拔髓针 ☆坏死牙髓:荡洗、冲洗(二)根管预备第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术拔髓extirpation21定义:WL:从牙冠参照点到根尖狭窄部的距离WL是根管预备和根管充填的长度(二)根管预备第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术工作长度workinglength,WL22牙冠参照点前牙:切端后牙:

7、牙尖或洞缘23Apicalstop:根充挡/根尖止点WL定在ApicalconstrictionApicalconstriction牙周牙髓组织的分界线其外为根尖/周组织根管最狭窄处根管预备24特点:直观要求:X线投射角度要准确缺点:根尖孔不在根尖---欠准确第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术确定WL的方法--方法1:X线片法25优点:操作简便、减少X线照射准确率>90%禁忌证:装有心脏起搏器的患者问题:金属、穿孔等影响测定结果第七节:根管治疗术二、根管治疗的技术确定WL的方法--方法2:电测法频率型根尖定位仪26(二)根管预备第七节:根管治疗术二、根管治疗

8、的技术根管预备技术RootCanalI

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