分子印迹铜离子伏安传感器的研制与应用.pdf

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1、第25卷第10期化学研究与应用Vo1．25，No．102013年l0月ChemicalResearchandApplicationOct．，2013文章编号：1004—1656(2013)10—1351-06分子印迹铜离子伏安传感器的研制与应用徐丽娟，李锦书，卢小泉，王志华(西北师范大学化学化工学院，甘肃省生物电化学与环境分析重点实验室，甘肃兰州730070)摘要：利用分子印迹技术，以铜离子为模板，邻苯二胺为功能单体，在碳纳米管修饰的玻碳电极表面原位聚合，制备了铜离子印迹电化学传感器。采用差示脉冲伏安法对铜离子在该印迹电极上的电化学行为进行了研究。铜离子

2、在2．Ox10～～1．OxlO。tool·L浓度区间内与峰电流呈线性关系，其线性回归方程为to=1．6601gC一1．999(，：A，C：Ixmol·L)，相关系数为0．9920，检出限(S／N=3)达1．8×10mol·L-。，该法可用于自来水样中铜离子的检测。关键词：铜离子；碳纳米管；分子印迹聚合物膜；电化学传感器中图分类号：0657文献标志码：APreparationandapplicationofthecopperionvoltametricsensorsbasedonmolecularlyimprintingtechnologyXULi—jua

3、n，LIJin—shu，LUXiao—quan，WANGZhi—hua(KeyLaboratoryofBioelectroehemistry&EnvimnmentalAnalysisofGansuProvince，CollegeofChemistry&ChemicalEngineering，No~hwestNormalUniversity，Lanzhou730070，China)Abstract：Anovelvohammetricsensorbasedonmolecularlyimprintedpolymerfilmhasbeendevelopedfor

4、copperiondetec—tion．ThesensitivefilmwaspreparedbyCO·polymerizationof0·phenylenediamineandcopperiononthecarbonnanotubesmodifiedglassycarbonelectrode．Themolecularlyimprintedsensorwascharacterizedbydiferentialpulsevohammetry(DPV)andcyclicvol—tammetry(cv)．Undertheoptimumconditions，th

5、elinearrelationshipsbetweencurrentandlogarithmicconcentrationwereobtainedintherangefrem1．0×10to2．0×10_。mol·L～，withthelinearregressionequation，p=19．99—1．6661gC(I：A，C：tool·L)，correlationcoefficient0．9920．Thedetectionlimitof1．8xlO”mol·L一wasachieved(S／N=3)．Thissensorwasusedsuccessful

6、lyf0rCudeterminationindrinkingwater，Keywords：copperions；carbonnanotube；molecularlyimprintedpolymermembranes；electrochemicalsensor分子印迹聚合物(或离子印迹聚合物)对模板离子印迹技术是分子印迹技术的分支，它以分子卓越的识别性能，使其在众多科学技术研究阴、阳离子为模板，通过静电、配位等作用与功能与应用领域都有着重要的应用价值，可广泛用于单体相互作用]。在金属离子的分子印迹技术目标物质从复杂基质中的提取、富集、浓缩与分中，模板分子(

7、离子)与功能单体之间是通过金属离，可用于构建各类传感器，甚至还可用于临床的与配体原子问的螯合作用相结合的，金属与配体拟(Pseudo)免疫测定等，已经成为一个异常活跃之间的配位作用相对非共价键有足够的稳定性，的领域，引起许多科学家的广泛的兴趣¨。同时又可以通过环境条件的改变，来控制配位键收稿日期：2012—12-18；修回日期：2013-0117基金项目：国家自然科学基金项目(20965007)资助；甘肃省高分子材料重点实验室项目资助联系人简介：王志华(1971-)，女，副教授，主要从事分子印迹材料的制备、化学修饰电极的制备及应用研究。E—mail：zh

8、wang@nwnu,edu．cn1352化学研究与应用第25卷·的结合与断裂速度