第北章--面粗度纹路效果条件A.ppt

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1、第四章面粗度紋路效果條件第一節:面粗度的概念和各術語的定義第二節:放電加工條件對面粗度的影響第三節:放電加工條件標准化第四節:各機種產品的紋路效果分析教學時間(4H)第一節:衡量面粗度的各參數的定義說明面粗度:就是物體表面的粗糙程度,為了能評定工作表面的質量,任何表面的整個特征是因不同原因造成的不同輪廓形狀和不同程度的表面不平度的綜合。通常他們是:(1)由於機床的不精确度和切削力對工件的變形及對工件質量的影響等引起的几何形狀不平度;(2)由於振動機床或工件各個振幅的偏擺所引起的几何形狀不平度;(3)特定加工方法的內在作用引起

2、的几何形狀不平度;(4)切削過程中材料的撕裂引起的几何形狀不平度。表面粗糙度的術語和定義:隨著工業的發展和對外開放與技術合作的需要﹐對表面粗糙度的研究和標準化愈來愈被科技和工業界所重視。為迅速改變國內表面粗糙度方面的術語和概念不統一的局面﹐並達到與國際統一的目的﹐我國等效採用國際標準化組織__(ISO)有關的國際標準﹐制訂了相關表面粗糙度術語及定義的標準。主要講以下的几個朮語﹕(1)取樣長度l所謂取樣長度,就是評定表面粗糙度時所規定的一段基準線的長度。取樣長度的大小,要能限制和削弱表面波度對測量表面粗糙度的影響,既不應過大,

3、但也不能過小,一般應保証在取樣長度上有5個以上的表面微觀起伏的峰谷。另外取樣長度的方向,要和被測表面的輪廓走向一致(如下圖所示)。αlllllnx輪廓中線基準線---輪廓中線:在測量評定表面粗糙度時,首先要規定一條用於計算表面粗糙度參數值的基準線,這條基準線叫做輪廓中線,簡稱中線。中線是具有取樣長度並劃分輪廓的基準線,其幾何形狀應與工件表面幾何輪廓的走向一致。如被測的為平面是直線,被測的為圓截面是圓弧等。具體的輪廓中線有兩種:(a)最小二乘中線(b)算術平均中線(l)即:(4)輪廓峰(5)輪廓谷在取樣長度內輪廓與中線相交,連

4、接兩相鄰交點向內(從周圍介質到材料)的輪廓部分在取樣長度內輪廓與中線相交,連兩相鄰交點向外(從材料到周圍介質)的輪廓部分輪廓峰輪廓谷l基準線輪廓峰頂線輪廓谷底線l圖2-11(7)輪廓峰頂線輪廓峰頂線是在取樣長度內平行於基準線並通過輪廓最高點的線(8)輪廓谷底線在取樣長度內平行於基準線並通過輪廓最底點的線(5)輪廓最大谷深(Rm)在取樣長度內從輪廓谷底線至中線的距離(6)輪廓最大高度(Ry)在取樣長度內輪廓峰頂線和輪廓谷底線之間的距離它是Rp與Rm之和。曾用過類似的Rmax、Rt等符號。(4)輪廓最大峰高(RP)在取樣長度內從

5、輪廓峰頂線至中線的距離lRRyRPM(7)微觀不平度十點高度(Rz)在取樣長度內5個最大的輪廓峰高的平均值與5個最大的輪廓谷深的平均值之和。式中:ypi是第i個最大的輪廓峰高;yvi是第i個最大的輪廓谷深。(8)輪廓算術平均偏差(Ra)在取樣長度l內,輪廓偏距yi的絕對值的算術平均值0yRalX參數Ra定義直觀,用輪廓儀測量,快速而方便,且表面起伏的取樣較多,能比較客觀地反映表面粗糙程度,故國家標準推薦,在常用的參數範圍內(Ra為0.025~6.3um,),優先選用參數Ra來測量和評定表面粗糙度。(9)在單位長度取樣標准上的

6、波峰數量值:Rpc此取樣長度內Rpc=6第二節:放電加工條件參數對面粗度參數的影響在放電加工條個中影響面粗度的主要參數有:τ:放電幅VH:高壓電壓VL:低壓電壓IpH:高壓電流IpL:低壓電流SvNo:servo號碼用來調整侗幅速度ONSvadj:調整工件與電極之間開始放電時的距離Vtime:輔助調整加工時間與電流作配合使用次要的參數有:Amount:抬刀高度Cycle:加工周期Speed:抬刀速度τ:休止幅Off放電參數和面粗度之間有如下的關系:在其他參數不變時:ON增大---Rmax增大---Ra增大----Rpc減小I

7、pL增大---Rmax增大----Ra增大-----Rpc增大Svadj增大-間隙增大----Rpc增大----Ra和Rmax增大在ON*IpL=常數時,Rmax和Ra為固定值,當ON增大--Rpc減小當IpL增大--Rpc增大第三節:面粗度及條件對照表手機模具零件面粗度的Ra不大于1.20時對其物理性能的影響可以忽略不計﹐它主要體現模具零件的成品處放電花紋對產品的花紋影響,所以我們在在這里談的主要是針對母模仁及參與產品的成型之工件的面粗度。所有的靠破﹑插破面全部可以加工到VDI3400.No18~VDI3400.No21之

8、間﹐而成品處的面粗度則要完全按照客戶的要求加工﹐不可以私自更改。故我們要對面粗度的加工作統一的標准化。一般規則在手機模具零件的加工的過程中﹐對于零件表面的粗糙度一般要遵守以下的規則﹕一﹕只要是成品的肋的部分面粗度要細﹐要達到VDI3400.No.15以下,這樣在成型生產時成品利于脫模﹔二﹕

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