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时间:2020-08-12
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1、sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程2021/7/281TFT-LCDProcess2021/7/282sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程TFT-LCDStructure&PrincipiumTFT—ThinFilmTransistor薄膜电晶体LCD—LiquidCrystalDisplay液晶显示器由于TFT-LCD具有体积小,重量轻,低辐射,低耗电量,全彩化等优点,因此在各类显示器材上得到了广泛的应用。2021/7/283sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程TFT-LCD各结构的功能背光板模組:提供光的
2、來源.上下偏光板,TFTGlassSubstrate,液晶:形成偏振光,控制光线的通过与否。彩色滤光片:提供TFTLCD紅,綠,藍(光的三原色)的來源。ITO透明导电层:提供透明的导电通路。PhotoSpacer:提供一固定高度給彩色滤光片和TFTGlassSubstrate。作为灌入液晶時的空間.及作为上下两层Glass的支撑。2021/7/284sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程TFT-LCD显示原理液晶简介光与液晶分子产生的效果偏光板的特性将偏光板、槽状表面、液晶组合后产生的光学效果TFT-LCD显像原理2021/
3、7/285sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程TFT-LCD使用的液晶为TN(TwistNematic)型液晶,液晶分子呈椭圆状。TN型液晶一般是顺着长轴方向串接,长轴间彼此平行方式排列。当接触到槽装表面时,液晶分子就会顺着槽的方向排列于槽中。液晶简介2021/7/286sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程光与液晶分子产生的效果当线性偏极光射入上层槽状表面时,此光线随着液晶分子的旋转也产生旋转。当线性偏极光射出下层槽状表面时,此光线已经产生了90度的旋转。2021/7/287sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程
4、偏光板的特性作用:将非偏极光(一般光线)过滤成偏极光。当非偏极光通过a方向的偏光片时,光线被过滤成与a方向平行的线性偏极光。右上图:线性偏极光继续前进,通过第二片偏光片时,光线通过。右下图:通过第二片时,光线被完全阻挡。2021/7/288sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程将偏光板、槽状表面、液晶组合后产生的光学效果(1)当上下偏光片相互垂直时,若未施加电压,光线可通过。2021/7/289sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程当施加电压时,光线被完全阻挡。将偏光板、槽状表面、液晶组合后产生的光学效果(2)TFTLC
5、D简介与生产工艺流程TFT-LCD显像原理(1)sunyesTFT-LCD显像原理(2)sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程2021/7/2812sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程ColorFilterFabricationProcessTFTArrayProcessLiquidCrystalCellProcessModuleAssemblyProcessTFT-LCDProcess2021/7/2813C/FProcesssunyesTFTLCD简介与生产工艺流程2021/7/2814sunyesTFTLCD简介
6、与生产工艺流程ITO透明导电层的作用sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程2021/7/2816sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程因TFT组件的动作类似一个开关(Switch),液晶组件的作用类似一个电容,藉Switch的ON/OFF对电容储存的电压值进行更新/保持。SWON时信号写入(加入、记录)在液晶电容上,在以外时间SWOFF,可防止信号从液晶电容泄漏。在必要时可将保持电容与液晶电容并联,以改善其保持特性。TFTArray等效电路2021/7/2817sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程这是5次光刻形成T
7、FT图形,采用底栅背沟道刻蚀的工艺。以玻璃为基板。第一次光刻形成栅线原料为Cr。第二次光刻形成“硅岛”——SiNx,a-Si,n+-a-Si层,第三次光刻形成ITO导电膜,第四次光刻形成源极漏极,材料为Cr,并进行n+切断,基本形成TFT。最后第五次光刻形成SiNx保护膜。TFT-ArrayProcessDataBusLineandS/DMetalSputteringDataBusLineandS/DPatterningUsing4thMASKEtch-Backofn+a-SiUsingS/DLayerasaMASKPassiv
8、ationSiNxDepositionUsingPECVDPassivationSiNxAtchUsingRIE2021/7/2818sunyesTFTLCD简介与生产工艺流程CellProcess(1)2021/7/2819sunyesTFTLCD简介与生产工
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