集成电路CAD实验课件.ppt

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1、实验6使用L-Edit画PMOS版图6.1实验目的及要求1．了解L-Edit软件及其环境，掌握各个工具栏的作用，了解基本快捷键的操作；2．掌握L-Edit的基本操作；3．了解版图设计方法和流程；4．掌握版图设计方法。6.2相关知识L-Edit是TannerPro工具软件中的一个软件包，可以在同一窗口中进行版图设计、设计规则检查、网表提取、标准单元自动布局与连线等工作。配合在S-Edit中建立的相应电路，可以在TannerPro提供的另一个工具LVS完成布局与电路的比对。本实验将详细介绍使用L-Edit画出PMOS版图的

2、步骤，引导学生掌握L-Edit的基本操作。6.3实验内容及步骤1）打开L-Edit程序2）替换设置：选择“file(文件)”“ReplaceSetup(替换设置)”命令，单击出现的对话框Fromfile下拉列表右侧的Browser按钮，选择“....MyDocumentsTannerEDATannerToolsv13.0L-EditandLVSSPRLightsLayoutlights.tdb”文件3）环境设定：绘制布局图，必须有确实的大小，因此要绘图前先要确认或设定坐标与实际长度的关系。选择“Se

3、t(设置)”“Design（设计）”命令，打开SetupDesignLayout对话框4）绘制NWell图层：L-Edit编辑环境是预设在P基底上，故不需要定义出P型基底范围，而在P型基底上制作PMOS的第一步，流程上先要作出NWell区，即需要设计光罩以限定NWell的区域。绘制NWell布局图必须先了解是使用哪种流程的设计规则，本实验是使用MOSIS/ORBIT2.0U的设计规则。观看NWell绘制要遵守的设计规则，可单击按钮，可知NWell的最小宽度有10个Lambda的要求。选取左侧Layers面板下拉列表中

4、的NWell选项，使工具被选取，再从Drawing工具栏选择工具，画出占据横24格纵向15格的方形NWell。5）截面观察：L-Edit有一个观察截面的功能，可以利用该布局图设计出的组件的制作流程与结果。单击按钮，打开对话框单击对话框的Browser按钮，在弹出的对话框中选择…L-EditandLVSSPRLightsLayoutlights.xst文件，再单击Pick按钮再编辑画面选择要观察的位置，再单击OK按钮6)绘制Active图层：Active图层在流程上的意义是定义PMOS或NMOS的范围，Act

5、ive以外的地方是厚氧化层区，故需要设计光罩以限定Active的区域，但要注意PMOS的Active图层要绘制在NWell图层之内。可以以上面同样的方法观察Active图层绘制要遵守的设计规则，从Ruleslist列表框中选择2.1ActiveMinimumWidth选项，可知Active的最小宽度为3个Lambda的要求。同步骤4中所述，选取Layers面板中的Active选项，画出占据横向14格纵向5格的方形Active于NWell图层中7)设计规则检查：选择“Tools（工具）”“DRC”命令，或单击按钮，进行

6、设计规则检查。进行设计规则检查8）绘制PSelect图层：在PMOS中需要布置的是P型杂质，PSelect图层在流程上的意义是定义要布置P型杂质的范围，故需要设计光罩以限定P型杂质的区域。但要注意PSelect区域要包住Active图层，否则设计规则检查会有错误。查看其要遵守的设计可知，若Active完全在PSelect内，则Active的边界要与PSelect的边界至少要有两个Lambda的距离，这是环绕规则，画出PSelect占据横向18格，纵向9格的方形于NWell图层中9）绘制Poly图层：Poly图层在流程上

7、的意义是定义成长多晶硅（PolySilicon），需要设计光罩以限制多晶硅区域。查看其设计规则3.1PolyMinimumWidth选项可知，Poly的最小宽度有两个Lambda的要求。选取Layers面板中的Poly选项画出占据横向2格子，纵向9格的方形于NWell图层中，注意：Poly图层必须延伸出Active区域有最小两个Lambda，否则违反3.3延伸（xtension）规则，DRC检查将会出现错误10）绘制ActiveContact图层：PMOS的源极与漏极各要接上电极，才能在其上加入偏压。各组件之间的信号传

8、递，要靠金属线连接，在最底层的金属线是以Metall图层表示。查看ActiveContact图层绘制所要遵守的设计规则6.1AActiveContactExactSize可知，ActiveContact图层有一个标准宽度的限制，其宽度限制为2个Lambda的大小，这是标准宽度（ExactWidth）规则。选取Layers面板中的A