化学反应工程(第三版)陈甘棠主编_第五章_催化剂与催化动力学基础课件.ppt

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1、第五章催化剂与催化动力学基础5.1催化剂能够改变化学反应速率而本身在反应前后不发生组成变化的物质。（1）类型金属（良导体）、金属氧化物和硫化物（半导体）以及盐类和酸性催化剂（大多数是绝缘体）（2）载体活性炭、硅胶、活性白土、硅藻土、沸石（分子筛）、骨架Ni、活性Al2O3、Fe等（3）性能要求活性好、选择性高、寿命长。（4）结构比表面积破碎强度压降无定形颗粒球形柱形长柱形三叶草形环形多孔柱形车轮形独石形金属独石形Foam几种常用催化剂的结构（5）制备方法①混合法②浸渍法③沉淀法或共沉淀法④共凝胶法⑤喷涂法及

2、滚涂法⑥溶蚀法⑦热熔法气-固相反应速率的定义式（1）以催化剂重量为基准：（2）以单位相界面积为基准：（3）以单位催化剂颗粒体积为基准：（4）以单位催化剂床层体积为基准：5.3气固相催化反应动力学其中，最常见的是以催化剂重量为基准的速率方程。5.3.1反应的控制步骤一、反应步骤外扩散过程(气相主体催化剂外表面)内扩散过程(催化剂外表面内表面)表面吸附过程表面反应过程表面脱附过程内扩散过程(催化剂内表面外表面)外扩散过程(催化剂外表面气相主体)动力学控制二、控制步骤速率比其它各步小得多，对整个反应过程速率起决定

3、作用的步骤。动力学控制扩散控制控制步骤k1总反应速率取决于控制步骤速率，其余各步速率很快，均达到平衡。因为将各平衡常数代入并整理得：5.3.2.1表面反应控制化学反应计量式A+BR+S化学反应机理式A+σAσB+σBσAσ+BσRσ+SσRσR+σSσS+σ5.3.2双曲线型的反应速率式将空白率θV代回到吸附平衡方程得到兰格缪尔吸附等温式：将θi代入表面反应速率式，得（5-28）式中，Ki称为吸附平衡常数，是i组分吸附速率常数与脱附速率常数之比。式（5-28）即为过程的总速率方程。由该式的分母可知，反应物和

4、产物均被吸附。分母的方次表明该反应是在A、B两个活性中心之间进行的。若控制步骤为可逆反应过程总速率：如果吸附和脱附机理与上述不可逆反应过程相同，即反应物和产物都吸附。按相同的方法可导出其反应速率方程为：（5-30）式中，比较式（5-28）和式（5-30）可见，表面反应为控制步骤时，可逆反应与不可逆反应速率式的分母相同，区别在于分子。可逆反应的分子上有两项，不可逆反应只有一项。Aσ+BσRσ+Sσk1k2A在吸附时解离A+2σ2A1/2σB+σBσ2A1/2σ+BσRσ+Sσ+σk1k2按上述方法可得到（5-

5、31）从分母中项可判断A是解离吸附，3次方则表示参加反应的活性点有3个。RσB+σSσS+σ例：设反应A+BR+S，已知其反应速率式为：试写出该反应的机理和控制步骤。（i）根据速率式分子中kr，可判断该反应为表面反应控制。（ii）根据分子上只有一项，可判断该反应为不可逆反应。(iii)由分母可判断，B、R和S均不吸附，参加反应的活性点只有一个，即吸附的A与气相的B进行反应。故反应机理如下：A+σAσAσ+BR+S+σAσ1+Bσ2σ1+Rσ2存在两种活性中心反应A+BR机理A+σ1Aσ1B+σ2Bσ2Rσ2

6、R+σ2控制步骤因为由以上各式得所以5.3.2.2吸附控制化学反应计量式A+BR+S反应机理式A+σAσB+σBσAσ+BσRσ+SσRσR+σSσS+σ控制步骤k1因为由以上各式可得：k2将θA和θV代入速率方程整理得：（5-44）式中据此，可判断此反应为A的吸附控制。（分母中出现Kr,不出现pA）问题：仿照式（5-44）写出B吸附控制的速率方程。反应AR机理A+σAσAσRσRσR+σ控制步骤5.3.2.3脱附控制由及得式中（5-59）式（5-59）中，分母上出现Kr，故不是表面反应控制；分母上没有KR

7、，则应为产物脱附控制。5.3.3幂数型反应速率式一、焦姆金方程二、经验关联式定义则二、确定有效系数的方法5.3.6催化剂的内扩散因为催化剂的内表面积比外表面积大得多，气-固催化反应主要发生在催化剂内表面。所以，气体物料在催化剂颗粒内部的热、质传递对反应速率有十分重要的影响。一、有效系数实际反应速率表面速率（1）扩散系数（i）分子扩散由分子本身热运动引起的物质传递过程。扩散阻力主要是分子之间的碰撞。分子扩散速率可由费克定律计算：式中，DAB——扩散系数，可查物性手册或用查普曼-恩斯考式计算。（ii）努森扩散分

8、子在孔径小于分子自由程的微孔内的扩散。扩散阻力主要是分子与孔壁之间的碰撞。努森扩散系数（5-92）（iii）综合扩散系数（5-93）式中，圆管内定常态操作时，NB=-NA，a=0，则（5-95）（iV）有效扩散系数（5-99）式中，τ——微孔形状因子，也称迷宫因子或曲折因子。其值由实验求得，一般在1-6之间。（2）西勒模数（i）球形颗粒（5-103）式中，kV是以颗粒体积为基准的反应速率常数，R是颗粒半径，L是片