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1、ProtectingGroupsinOrganicSynthesis选择保护基的原则：(1)保护基的供应来源，包括经济程度。(2)保护基团必须能容易进行保护，且保护效率高。(3)保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性，如保护中忌讳产生新的手性中心。(4)保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应和后处理过程。(5)保护基以后的化合物对分离、纯化、各种层析技术要稳定。(6)保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去。(7)去保护过程的副产物和产物能容易被分离。呼之即来，，，挥之即去，挥之即
2、去。。。切莫请神容易，，，送神难，送神难。。。羟基的保护基1).酯类保护基t-BuCO(Piv);PhCO;MeCO;ClCHCOetal.2OHOHHOPivCl(1eq)HOOOPy-CH2Cl2OHo0-25C90%Nicolaou,K.C.;Webber,S.E.Synthesis,1986,453酯类保护基的除去(cleavage)碱性条件下水解，水解能力：t-BuCO(Piv)3、般用较强的强碱体系，如KOH/HO,LiAlH,DIBAL,24KBHEt3OTBDMSOTBDMSTBDMSOODIBAL(2.5eq)TBDMSOOHOoCH2Cl2,-78C95%Nicolaou,K.C.;Webber,S.E.Synthesis,1986,453ClCHCO的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液，2NHCHCHSH,NHCHCHNH,PhNHCHCHNH等除去。2222222222OClOBnOBnOBnOBnOHOONH2NH2(15eq)OAcOOBnOBnAcOOBnOBnHOAc-HO
4、MeOOrt,12hOOAcHNAcHNOBnOBn74%Cook,A.F.;Maichuk,D.T.J.Org.Chem.,1970,35,1940.OROHAcOAcOOSOROOH2NHNSHHOOOOOOOODioxane,i-Pr2NEtOOOPhOOPhOAcOAcOOROHR=ClCH2CO40%Smith,A.B.;Hale,K.J.;Vaccaro,H.A.;Rivero,R.A.J.Am.Chem.Soc,1991,113,2112.2).硅醚保护基硅醚保护基主要有：MeSi(trimethylsily
5、l,TMS);3EtSi(triethylsilyl,TES);3t-BuMeSi(tert-butyldimethylsilyl,TBDMSorTBS)2i-PrSi(triisopropylsilyl,TIPS)3t-BuPhSi(tert-butyldiphenylsilyl,TBDPS)2酸水解相对稳定性:TMS(1)6、S(100,000)硅醚保护基的除去：（F-Si142kcal/mol;O-Si112kcal/mol）通常用HF/CHCN;TBAF/THF;HF.Py/CH3CN3TMSether：TMSClorTMSOTfinpyridine,NEt,I-PrNEt,imidazole,DBU32OOHOOTMSCO2MeCO2MeCOOBu-tMe3SiCl-ImHCOOBu-tOo100C,90min.HOOTBSOOOTBSOO100%Kerwin,S.M.;Paul,A.G.;Heathcock,C.H.J.Org.Chem
7、.,1987,52,1686TESether：TESCl/Imid.DMAP;TESOTf/Py.or2,6-dimethylpyridineOHOOTESOTESOTf(1.1eq)HHPy,MeCN,o-50C,10min.79%Heathcook,C.H.;Young,S.D.;Hagen,J.P.;Pilli,R.;Badertscher,U.J.Org.Chem.,1985,50,2095TBDMSether：TBDMSCl/imid./DMF;TBDMSOTf/2,6-dimethylpyridineOHOTB
8、STBDMSOTfOBzOBz2,6-di-tert-buylepyridineOBMPOOCH2Cl2,rt,24hOBMPOOHikota,M.;Tone,H.,Horita,K.;Yonemitsu,O.J.Org.Chem.,1990,55,7.TBDPSether：BDPSCl/imid./D
