有机合成课件保护基团

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1、第七章保护基团(protectivegroups)参考文献：T.W.Greene,Protectivegroupsinorganicsynthesis,thirdedition一、概述：理想保护基团的标准1．保护基的来源，经济性2．容易引入，保护效率高3．保护基的引入对化合物的结构不应增加过量的复杂性，如新手性中心等。4．保护后的化合物在后面的反应中要求稳定5．保护后的化合物对分离、纯化和层析要稳定6．能在高度专一的条件下选择性、高效脱除、不影响分子其余部分。7．去保护的后的主产物要易于分离。8．有时还可以将保护基转换为其他官能团。二、羟基的保护（一）形成醚1.甲基醚I.保护（1

2、）有机溶剂,产率60—90%（2）MeI,Me2SO4NaH,KI，THF,引入甲醚无很大位阻影响（3）CH2N2硅胶/HBF4（4）MeI,Ag2OII．去保护Lewis酸Me3SiI/CHCl3，BBr3，CH2Cl2。浓HI2．形成叔丁基醚类ROC(CH3)3去保护：无水CF3COOH，0-20oC.2MHCl,CH2OHHBr,AcOH,20oC30分钟3．苄醚ROCH2Ph,Bn-ORBnCl,KOH(粉末)，130－140o,苄氯或苄溴与醇形成苄醚。优先保护伯醇三、二醇的保护1，2－二醇1，3－二醇（一）形成缩酮、缩醛用醛、酮：丙酮、环己酮、苯甲醛或其烯醇醚（2－甲氧

3、基丙烯）等在酸催化下进行。糖类，甘油脱保护：稀酸水溶液，rt;或加热。四、羰基的保护（一）形成缩酮或其他等价物反应活性：醛>链状羰基>环己酮>a,b-不饱和酮>苯基酮环状缩酮较稳定。酸水解的相对速率：（二）、形成缩硫酮保护：酸催化去保护:HgCl2，CdCO3Hg(ClO4)2，MeOH，25oCRaneyNi可将羰基还原成亚甲基。应注意去保护，同时可以完整地还原成CH2很好的保护基，但不如乙二醇乙二醇，毒性小二硫醇，毒性，气味