技术的优势及其制造技术

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1、SOI技术的优势及其制造技术崔帅1张华林1余学峰1曹晓冰21新疆理化技术研究所,乌鲁木齐830011;2河北大学物理学院,保定070020关键词:SOISIMOX硅片键合智能切割1引言SOI是英文Silicon-On-Insulator的简称，指具有在绝缘衬底上再生长一层单晶硅薄，或者是单晶硅薄膜被绝缘层（通常是Sio2）从支撑的硅衬底中分开这样结构的材料。最初人们开发研究SOI材料是为了代替SOS(Silicon-On-Sapphire)（注：绝缘衬底为蓝宝石）材料制作用于空间军事用途的抗辐射集成

2、电路。由于发现薄膜SOIMOSFET具有极好的等比例缩小的性质，使得SOI技术在深亚微米VLSI中的应用中具有极大吸引力。目前SOI技术走向商业应用阶段，特别是应用在低压，低功耗电路[1-2〕，高频微波电路以及耐高温抗辐射电路[3]等。本文通过比较SOI和体硅器件在寄生电容，闭锁效应，热载流子效应以及辐射效应等方面的差异，阐述了SOI的优越性。并介绍了SOI晶片的三种主流制造技术，以及其在微电子领域的发展趋势和存在的问题。1.1SOI的优越性[4，5，6，7]SOI结构的器件比类似的体硅器件具有更多

3、的优点，下面我们以CMOS为例对二者进行比较。CMOS集成电路的基本单元是CMOS反相器，由一个NMOS和一个PMOS构成。由图一可知体硅的CMOS反相器中PMOS制作在N型衬底上，而NMOS制作在P阱中（P阱是在N型衬底上用离子注入技术特意制作的局部P型材料）。P阱将NMOS和PMOS相互隔离。而SOICMOS中的PMOS管和NMOS管分别制作在SOI材料顶部薄Si层中，NMOS和PMOS是相互隔离的。由于体硅CMOS和SOICMOS结构上的不同，因而它们在寄生电容，闩锁效应，热载流子效应和辐照特

4、性等方面有很大的差异。图1CMOS反相器剖面图2.1寄生电容NMOS和PMOS源漏扩散区与衬底之间的寄生电容随衬底掺杂浓度线性变化。随着器件尺寸缩小，为减小短沟道效应，衬底掺杂浓度必须适当提高，源漏结电容随之增大，结和沟道阻断区之间的寄生电容随之增加。这影响了电路运行速度，还增加电路的功耗。在SOI电路中，结与衬底的寄生电容是隐埋的绝缘体电容。该电容正比于绝缘层Sio2的介电常数，Sio2的介电常数仅为Si的1/3。而且随着器件尺寸的缩小，隐埋Sio2层的厚度不需要按比例缩小，寄生电容不会增加。另外

5、。SOI器件的其他寄生电容，如硅衬底和多晶硅层，金属互连线之间的电容也减少了。在VLSI向深亚微米方向发展时，寄生电容的降低将明显提高电路的速度。2.2闭锁效应闭锁（Latch-up）效应又称可控硅效应，是体硅CMOS电路中的一个特有的问题。从图2所示的CMOS断面结构图上，可以看到存在纵向NPN横向PNP两个寄生双极晶体管，他们分别由衬底、阱和源漏结构成。若高掺杂区的内阻略而不记，那么这些寄生晶体管和Rw、Rs一起构成了图三所示的正反馈电路。当电流放大系数β1*β2>1，且两个晶体管的基极—发射极

6、正向偏置，闭锁效应即可触发。图2体硅CMOS断面结构图图3等效电路如果采用SOI结构，由于没有到衬底的导电通道。闭锁效应的纵向通路被切断。所以SOI具有很好的抗闭锁性。2.3热载流子效应随着器件集成度的提高，尺寸的减小，衬底的掺杂浓度增加，而电源电压没有相应按比例降低，这使得沟道内的横向、纵向电场急剧增加，载流子在电场加速下成为热载流子（hot-carrier）。其中一部分注入到栅氧化层中，改变了氧化层界面内永久电荷的分布。从而引起跨导的减小、阈电压漂移和漏电流减少。当注入数目较多时，可以检测到栅电

7、流的存在。高能电子还通过碰撞电离产生电子——空穴对。在体硅器件中所产生的空穴流入衬底形成衬底电流。衬底电流与栅电流存在一定的关系，且器件寿命与栅氧化层中热电子注入数目有关。由栅氧化层热载流子退变所定义的器件寿命г与碰撞离化电流有关，可由下式给出：rW/ID(M-1)-m(1)m是碰撞离化放大因子。在全耗尽SOIMOSFET中，M可通过漏端附近对撞离化系数的积分得到，且与漏电压和栅电压有关。由（1）式可知，器件寿命与放大因子有关。有关研究发现[1，5，6，7〕全耗尽SOIMOSFET中的热电子退变要比

8、体硅弱，SOI的寿命更长可靠性更高。2.4辐射效应在空间环境中，集成电路会受到核辐射。MOS器件是多子器件，抗中子辐射能力强，但对单粒子事件（SEU）、γ辐照相当敏感。当一个载能粒子（如α粒子或重离子）入射到一个反偏的P-N结耗尽区及下面的体硅区时，沿着粒子运行轨迹，硅原子被电离，即产生电子—空穴对。这种轨迹的存在使其附近的P-N结耗尽层发生短时塌陷，并且使耗尽层电场的等位面变形，称为“漏斗”（见图4）。在体硅器件内，在电场作用下，电子将被耗尽层所收集，而空穴向下移动