工艺与器件模拟概述.ppt

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1、工艺与器件模拟概述实验要求利用SentaurusTCAD工具，运行工艺和器件模拟，获得NMOS晶体管的I-V特性，包括Ids-Vgs曲线和Ids-Vds曲线提纲动机理论分析vs模拟模拟的层次SentaurusTCAD简介工艺模拟示例器件模拟示例动机$imulationsavestimeandMon€y!动机Simulationshowswhathappensinside!理论分析vs模拟一维问题简单掺杂（解析）固定迁移率、温度线性低电场确定解特定条件任意几何形状任意掺杂可变迁移率、温度非线性高、低电场数值解可信度、收敛性模拟的层次模拟的层次系统级→电路级→器件级

2、→工艺级电路模拟输入晶体管级的电路网表（netlist）输入激励（输入信号）元件的描述（模型）输出电路中各个节点的电压、电流随时间的变化器件模拟器件模拟可以被想象为半导体器件（如晶体管或二极管）电特性的虚拟测量。器件被描绘成离散化的有限元结构。器件的每个网格点都有相应的性质与之关联，例如材料的种类和掺杂浓度。器件模拟其实就是计算每一个网格点的载流子浓度、电流密度、电场、产生和复合速率、等等器件模拟通常针对单个器件，也可以针对少量器件构成的电路输入器件的几何特征掺杂分布外部施加的电压、电流、温度输出端点电压、电流随时间的变化电场、温度内部电势、电子/空穴浓度工艺模

3、拟通常针对单个器件输入初始材料和掺杂（晶圆的信息）工艺流程和各步骤的参数（时间、气氛、温度、掩膜等）输出器件几何尺寸掺杂分布SentaurusTCAD简介SentaurusWorkbench一个可视化的集成环境，其直观的GUI可用于设计、组织和运行模拟。一个完整的模拟流程通常包括多个工具，例如工艺模拟器SentaurusProcess，网格化工具mesh，器件模拟器SentaurusDevice，绘图和分析工具inspect。SentaurusTCAD简介LigamentLigament流程编辑器：提供一个方便的GUI用于工艺流程的创建和编辑Ligament版图

4、编辑器：提供一个GUI用于创建和编辑版图SentaurusTCAD简介SentaurusProcess一个完整的和高度灵活的多维工艺模拟环境工艺校准做得不错，使用默认的设置获得的结果就比较可信SentaurusTCAD简介SentaurusStructureEditor（SDE）一个二维和三维器件编辑器以及三维工艺仿真器三种工作模式：二维结构编辑、三维结构编辑和三维工艺仿真几何和工艺仿真操作能够自由混合SentaurusTCAD简介MeshandNoffset3DMesh采用基于四叉树/八叉树的方法，产生与坐标轴对齐的网格Noffset3D是fullyunstr

5、uctured，对材料边界处给予了特别的关注SentaurusTCAD简介SentaurusDeviceSDevice模拟半导体器件的电、热和光性能可以处理一维、二维和三维几何结构以及混合模拟复杂的物理模型集合，适用于所有相关的半导体器件和工作条件SentaurusTCAD简介TecplotSVSynopsys集成了Tecplot（一个用于科学可视化的专用软件），并对其进行了定制TecplotSV是一个绘图软件，具有强大的二维和三维功能，可用于查看模拟和实验数据SentaurusTCAD简介InspectInspect是一个x-y数据的绘图和分析工具，例如半导体

6、器件的掺杂分布和电特性脚本语言和数学函数库使得用于可以对曲线进行计算，从曲线中提取所需的数据（如阈值电压）第十一讲SPICE模拟概述微电子与微处理器研究所梁斌助理研究员实验要求利用SynospsysHSPICE模拟NMOS管的I-V特性，与器件模拟的结果进行比较利用HSPICE模拟反相器的VTC（Voltage-TransferCharacteristic）特性，获得高、低噪声容限设计出高、低噪声容限相等的反相器主要内容SPICE模拟的基本概念典型spice输入文件剖析实例SPICE模拟的基本概念SPICE:SimulationProgramwithIntegr

7、atedCircuitEmphasis被业界广泛使用，已经成为事实上的标准SPICE有多种版本，其中大部分源于BerkeleySynopsys:HspiceCadence:Spectre对于不同版本的SPICE，其基本算法是一样的，不同点在于：timestepequationsolverconvergencecontrol线性网络的求解{{线性网络的求解-2-1/5-12-1/2Results:V1=33V,V2=18V,V3=12V.SPICE模拟的基本概念Spice的主要用途代替计算（☆）辅助验证辅助设计Spice的使用时机单元级设计小模块的设计对精度要求很

8、高的模拟电路的设计（如P