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时间：2020-06-18
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1、微影照像用材料ElectronicMaterials電子材料1圖2.1 (a)正光阻，和(b)負光阻成像的比較2345圖2.2 光阻覆蓋製程6圖2.3 (a)正光阻，(b)負光阻的特性比較7（續）圖2.3 (a)正光阻，(b)負光阻的特性比較8910圖2.4 電漿預處理11圖2.5 影像反轉製程和(a)以深紫外光照像，(b)曝光後，(c)矽離子植入，(d)氧離子植入，(e)最後是光罩中透明的部份被保留了。12圖2.6 駐波現象13圖2.7 (a)繞射現象和(b)降低繞射的比較14圖2.8 一個光罩
2、的例子1516圖2.9光罩護膜171819圖2.10 接觸式曝光系統20圖2.11 步進照像系統21圖2.12 在晶圓上步進曝光22圖2.13 霧狀晶圓的對準原理23圖2.14 (a)傳統光罩，和(b)相移光罩的成像的解析度比像24圖2.15數值孔徑的表示方法25圖2.16焦距深度的表示方法26圖2.17解析力的表示方法27圖2.18各種紫外光和可見光光譜28圖2.19x光微影技術用的光罩293031
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