口腔正畸治疗要点Ⅱ.正畸治疗中的支抗与支抗控制.doc

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1、口腔正畸治疗要点Ⅱ.正畸治疗中的支抗与支抗控制矫治错(牙合)畸形的主要手段是对错位牙齿施加适当的矫治力,使其移动到正确的位置,重建协调、健康、稳定的(牙合)关系。因此，牙齿的受力移动是正畸治疗的基本步骤。当矫治力施加到需要移动的牙齿上时，同时也产生了一个大小相等、方向相反的反作用力。这便引入了一个概念—“支抗”。所谓支抗，就是能抵抗矫治力所产生的反作用力的结构。这些结构可以是牙齿、牙弓、口唇肌肉或骨骼。正畸临床中常用牙齿作为支抗。如果没有良好的支抗控制，就会发生牙齿的不良移动，进而影响最终的矫治效果。目前，临床矫治中出现的绝大多数问题

2、均与支抗控制有关。这就需要在矫治过程中通过有效的支抗控制，获得牙齿的有利移动，控制牙齿的不良移动。因此，支抗控制是正畸治疗成败的关键。一、关于支抗(一)牙齿的支抗值:牙齿的支抗值指牙齿能够抵抗矫治力反作用力的能力，其可用牙周膜面积代表。一颗牙齿的牙周膜面积越大，移动该牙齿所需要的力量就越大，牙齿的支抗作用就越强。在恒牙列中，第一磨牙的牙周膜面积最大，其次为第二磨牙，尖牙和前磨牙居中，切牙最小。以此推论，移动后牙所需的矫治力要大于前牙。(二)影响牙齿支抗值的因素:牙齿的牙周膜面积与牙齿的支抗值有关。但严格地说，是牙周膜的受力面积决定牙齿

3、的支抗值大小。因此，牙齿的移动方式、牙根的形态、牙槽骨的高度、牙根周围组织的结构以及是否有外力增强支抗，均可影响牙齿的支抗值。1.牙齿的移动方式:整体移动牙齿的支抗值大于倾斜移动者。牙齿整体移动时牙周膜的受力面积大于倾斜移动。因此，如果移动牙齿所需的单位面积牙周膜压力相同，则整体移动牙齿所需的力大于倾斜移动牙齿所需的力。2.牙根的形态:牙根的形态影响牙周膜在牙根颊舌侧和近远中侧的分布，对牙齿的支抗值也有影响。如下切牙牙根颊舌侧的宽度大于近远中侧的宽度，所以近远中向移动下切牙需要的力量要大于颊舌向移动者。3.牙槽骨的高度:牙槽骨的高度可

4、影响牙周膜的面积。当牙周组织病变造成牙槽骨吸收时，牙齿的支抗值会相应减小。这点在对牙周病患者进行正畸治疗时应予注意。4.牙根周围组织的结构:牙根在牙槽骨中移动，牙槽骨又分为骨松质和骨皮质。牙齿的移动是牙根在骨松质中的移动。当牙根与骨皮质接触时，因后者很难被吸收，所以这时牙齿的移动会明显减慢。这样虽然可以增强牙齿的支抗，但却可能造成支抗牙牙根吸收。5.有无外力增强支抗:应用领间牵引、口唇肌肉力量或口外力，抵消部分或全部作用于支抗牙上的反作用力，也可以达到增强支抗的目的。(三)支抗的类型:1.根据支抗结构的位置，可将支抗分为领内支抗、领间

5、支抗、软组织支抗和口外支抗。①领内支抗:在同一个牙弓内，利用部分牙齿作为支抗，移动该牙弓内的牙齿;②领间支抗:以上领或下领牙弓作为支抗，移动对领的牙齿;③软组织支抗:以口唇肌肉作为支抗;④口外支抗:以颅、领、面部的骨骼作为支抗。2.根据关闭间隙时前后牙的移动比例，将支抗分为强、中、弱3种。①强支抗:拔牙间隙大部分被前牙后移所占据，后牙只有少量前移。前牙、后牙利用间隙的比例分别为70%,30%，甚至可以达到80%,20%o②中度支抗:前牙后移占据拔牙间隙的1/2稍多，后牙前移占据拔牙间隙的1/2稍少。前牙、后牙利用拔牙间隙的比例分别为6

6、0%,40%.③弱支抗:拔牙间隙的大部分被后牙前移所占据，前牙后移的量较少。前牙、后牙利用拔牙间隙的比例分别为40%,60%。(四)支抗的选择:选择支抗时应考虑牙齿的拥挤程度、牙弓突度、磨牙关系、切牙轴倾度以及垂直不调和中线不调等因素。对于前牙拥挤度大和(或)牙弓前突的拔牙矫治患者，在排齐或内收前牙时应注意保护后牙支抗。因此，此类患者的后牙需要强支抗。对于磨牙远中关系的拔牙矫治患者，为了调整磨牙关系，需要前移下领第一磨牙，而使上领第一磨牙尽可能不前移。因此，患者上领后牙需要强支抗，而下领后牙需要中度或弱支抗。由于高角患者后牙容易前移，

7、矫治这类拔牙患者时要注意保护后牙支抗。对正处于青春期前后的恒牙列早期错胎畸形患者，还不应忽视生长发育对矫治的影响。二、支抗的控制(一)概述:支抗控制是通过各种措施，调整移动牙和支抗牙的位移量。其目的在于使希望移动的牙齿发生最大限度的移动，使不希望移动的牙齿发生最小的移动。从而在治疗结束时，使上下牙弓能达到良好的咬合关系以及牙领面关系协调统一。支抗控制应从长、宽、高3个方面考虑。通过矢状方向上的支抗控制，矫正牙弓前后向位置关系的不调。通过垂直方向上的支抗控制，影响牙和牙槽骨垂直发育，改变脍平面和下领平面角的倾斜度，从而改变面下1/3高度

8、和唇齿关系。虽然常规的正畸手段对垂直向的控制有限，但是支抗控制仍影响最终暗关系的稳定性和面部垂直高度的协调。横向支抗控制是防止上下牙弓宽度的不利改变、矫正宽度不调或中线位置不正而采取的措施。(二)支抗控制与矫治设计:在矫