电子半导体行业用水工艺流程介绍.doc

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1、电子半导体行业用水工艺流程介绍  半导体行业是一个高能耗的行业,在半导体产品制造过程中,由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性,对其配套设施提出了很高的要求,尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。超纯水制造工艺中打破了传统的固定观念,将节能减排的理念充分应用到超纯水制造工艺中去。  半导体行业水质符合美国ASTM标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级),其处理工艺有:  预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床

2、-精密过滤器-用水对象  预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象  预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象  预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

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