不同工艺条件对卤化银乳剂颗粒粒径分布的影响-论文.pdf

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1、信息记录材料2014年第15卷第4期研究与开发不同工艺条件对卤化银乳剂颗粒粒径分布的影响栾湘梅，程雪梅，范金龙(中国乐凯集团有限公司，保定071054)摘要：实验研究了乳化过程中，各种工艺条件的不同变化对乳剂颗粒粒径分布及性能的影响。通过扫描电镜及粒径分布测试设备的测定，对不同条件乳化后的颗粒分布及大小变化状态进行了观察、测试及数据分析，结果表明，不同工艺条件的变化，对颗粒分布、大小产生明显的变化，对感光度及性能均产生一定的影响。关键词：乳化条件；颗粒分布；性能中图分类号：TQ58文献标识码：A文章编号：1009—5624一(2014)04—0021—051引言越短穿透力越强。不

2、同的放射性同位素可产生出不同波长的^y射线，但同一种同位素只能产生出相同在工业探伤领域，目前采用的主要方法包括射波长的射线，随着同位素源使用时间的延长，该线探伤法、超声波探伤法、磁粉探伤法、涡流探伤法同位素产出的射线只有强弱变化而不会有波长和渗透探伤法。射线探伤是工业探伤中使用频率较变化。高的方式，主要机理为利用射线的穿透性，检测工件工业探伤胶片采用双注法、中性法乳化方式合的内里或是表面的缺陷，特别是焊接部件和钢板的成乳剂，X射线胶片卤化银晶形可以为立方体颗粒内部结构。工业探伤胶片常与金属箔片(增感屏)和(如图1所示)、土豆型颗粒(如图2所示)及T颗粒照射射线组合应用，通过卤化银

3、颗粒吸收射线照射(如图3所示)，乳剂颗粒平均粒径0．5um左右。工件产生的能量，使感光材料感光，通过显影加工后射线射线胶片卤化银晶形基本为立方体晶型，乳剂形成黑的银影像，用来发现工件上的微小缺陷，是工颗粒平均粒径0．3um左右；乳剂均为单分散、高解像业无损检测的一种产品。力乳剂颗粒，有利于提高胶片对比度。工业无损探伤照相所使用的光源为x射线或^y射线。X射线可由X光机或x射线高能加速器产生，射线可由放射性同位素产生。x射线和射线分别为某一段波长的光，具有很强的穿透性，波长收稿日期：2014—05—14图1立方体颗粒作者简介：栾湘梅，(1959一)，女，北京人，教授级高工，现主要从

4、事黑白胶片的研发及管理工作。Fig1Cubicparticle—1信息记录材料2014年第15卷第4期研究与开发C巯基四氮唑在乳化过程中的加入量对颗粒分布的影响。上述3种工艺变化，对乳剂颗粒的分布均产生一定的影响，由于B、C两种变化条件对性能会产生较大的变化，所以在此如图7所示，仅对是否含有巯基四氮唑对颗粒分布的影响做一个对比。图5双注PBr值对颗粒分布的影响Fig5TheinfluenceofDoubleinjectionPBrvaluetoparticledistribution．随着双注时PBr的升高(溴余量的减少)，颗粒分布变窄。3．3明胶浓度改变乳化反应液中明胶的含量，

5、将明胶的浓度控制在一个合理的范围内进行变化，不同明胶含量图7巯基四氮唑对颗粒分布的影响Fig7TheinfluenceofMercaptotetrazoletoparticledistribution的颗粒分布曲线如图6所示。巯基四氮唑加入，乳剂的颗粒分布变窄。3．5乳化升温终值乳化过程中采用逐渐升温过程，选择不同的温度值，作为升温的终点值，测定不同温度终值对颗粒分布的影响如图8所示。图6明胶浓度对颗粒分布的影响Fig6Theinfluenceofgelatinconcentrationtoparticledistribution，随着明胶浓度的增加，颗粒分布变窄，但胶浓度增大到

6、某个点后，效果就不明显。3．4巯基四氦唑图8乳化温度终值对颗粒分布的影响乳化过程中，巯基四氮唑的应用体现在3个方面。Fig8TheinfluenceofemulsiontemperaturevaluetoparticleA有无巯基四氮唑对颗粒分布的影响；distributionB巯基四氮唑在乳化过程中加入的位置与时间随着温度的升高，颗粒分布变化不大，温度降低对颗粒分布的影响；后，颗粒分布部分曲线左移。—-．囡RESEARCH&DEVEL0pMENTl轴矗nnatitmRttHi1gM搬el"ial~2014l"oi．1_、o．43．6搅拌速度注：去大颗粒的平均粒径为去掉约50个左

7、右的通过对乳化过程中的搅拌调节不同的转速，控大颗粒测得的平均粒径数据制颗粒的形成与分布状态。相对而言的2种转速对5结论颗粒分布的影响如图9所示。对上述试验乳剂，进行涂布，胶片实拍钢梯进行颗粒度比较，基本上以90％以上颗粒(同时测试的乳剂颗粒分布)偏小的颗粒度相对较细。试验表明：成核时形成的核的多少对颗粒分布的曲线没有明显变化，但核多会造成曲线左移，感光度下降，颗粒度变细，但在某个量后没有明显变化。双注时PBr的控制对乳剂颗粒分布有明显变化，随着溴余图9搅拌效果对颗粒分布的影响量的