偶联剂对PI／SiO2杂化薄膜微观结构的影响.pdf

《偶联剂对PI／SiO2杂化薄膜微观结构的影响.pdf》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。

1、塑料牛颖等一一偶联剂对PI／SiO杂化薄膜微观结构的影响2013年42卷第1期偶联剂对PI／SiO2杂化薄膜微观结构的影响牛颖，张明艳(1．大庆医学高等专科学校，化学教研室，黑龙江，大庆163312；2．哈尔滨理工大学，材料科学与工程学院，黑龙江，哈尔滨150040)摘要：采用溶胶一凝胶路线制备了偶联剂分别为3一氨丙基三乙氧基硅烷(APrTEOS)、3一缩水甘油丙基醚三甲氧基硅烷(GPTMOS)、乙烯基三乙氧基硅烷(TEVS)的3种PI／SiO杂化薄膜，并对其微观结构进行了研究。研究结果表明：在这3种偶联剂中，采用APrTEOS为偶联剂，偶联效果最好。

2、其次为GPTMOS，当采用TEVS为偶联剂时，几乎没有偶联效果。关键词：聚酰亚胺；二氧化硅；杂化；偶联剂；微观结构中图分类号：TQ323．7文献标志码：A文章编号：1001—9456(2013)O1—0035—03InfluenceofCouplingAgentonMicroscopicStructureofPI／SiO2HybridFilmsNIUYing，ZHANGMing—yan(1．ChemistryTeachingandResearchSection，DaqingMedicalCollege，Daqing，Heilongjiang163312

3、，China；2．MaterialScience＆EngineeringCollege，HarbinUniversityofScienceandTechnology，Harbin，Heilongjiang150040，China)Abstract：ThreekindsofdifferentcouplingagentsPI／SiO2hybridfilmswerepreparedbyusingsol—gelroute，andtheirmicroscopicalstructurewerecharacterized．Theresuhshowedthatcoup

4、lingeffectwasbestusingAPrTEOSascouplingagentinthisthreekindsofcouplingagents，andthesecondwasGPTMOS，TEVSwasalmostnocouplingeffect．Keywords：polyimide；SiO2；hybrid；couplingagent；microscopicstructure近年来，随着复合材料、有机硅材料的高速发展，硅烷偶联1实验部分剂发挥了越来越重要的作用I3。有机硅烷偶联剂具有特殊的1．1原料结构。在它的分子中，一端官能团与无机物质发生

5、化学反应，另4，4一二氨基二苯醚(ODA)：化学纯，牡丹江绝缘材料厂；一端的官能团能与有机物质发生化学反应。从而，硅烷偶联剂均苯四甲酸二酐(PMDA)：化学纯，牡丹江绝缘材料厂；可连接有机、无机材料，使材料充分发挥各自优异的性能，扩展N，N一二甲基乙酰胺(DMAc)：工业纯，牡丹江绝缘材料厂；其应用领域。目前，硅烷偶联剂在溶胶一凝胶法制备有机一无机正硅酸乙酯(TEOS)：分析纯，天津市津达精细化学品厂；纳米复合材料应用越来越多，尤其是PI／SiO，纳米复合材3一氨丙基三乙氧基硅烷(APrTEOS)：分析纯；料一。3一缩水甘油丙基醚三甲氧基硅烷(GPTM

6、OS)：分析纯，北京PI／SiO，杂化薄膜由于兼具有机相与无机相优异的性能，受百灵威化学技术公司；到各国学者青睐。但有机相PI与无机相SiO在热力学上乙烯基三乙氧基硅烷(TEVS)：分析纯，市售。不相容性成为制约该材料发展的瓶颈Ⅲ。有机硅烷偶联剂由1．2试样的制备于特殊的结构作用，连接两相，使它们在纳米范围内结合，在溶将ODA置于三口瓶中，用适量的溶剂DMAc将其溶解，再胶一凝胶法制备PI／SiO，杂化薄膜中起着非常重要的作用‘。加入无机前躯体TEOS，匀速搅拌至两相混合均匀。分数次加入文章采用溶胶-凝胶法，分别采用3-氨丙基三乙氧基硅烷与ODA等摩尔

7、量的PMDA，每次加入PMDA后，充分搅拌至混(APrTEOS)、3一缩水甘油丙基醚三甲氧基硅烷(GPTMOS)、乙烯合均匀。当体系黏度最大时，水浴降解以降低体系黏度。冷却基三乙氧基硅烷(TEVS)为偶联剂，制备PI／SiO，杂化薄膜，探后，依次加入偶联剂、去离子水，匀速搅拌16h，即得到杂化PAA讨这3种偶联剂对PI／SiO，杂化薄膜微观形貌的影响。胶液。将该杂化PAA胶液倒在无尘玻璃板上，铺膜，热亚胺化，收稿日期：2012—07—08作者简介：牛颖(1982一)，女，硕士研究生，讲师。通信联系人：张明艳(1962一)，女，教授，主要研究方向：高分子

8、电介质材料的合成、制备及改性。