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1、维普资讯http://www.cqvip.com第4卷,第2期电子与封装总笫I6期VOl4.N(J.2ELECTRONICS&PlACKAGING2004年3月支撑技术纯水应用中五种脱气装置的比较刘新庆(阿斯利康制药有限公司,江苏无锡214028)摘要:在7K*,l造过程中,以前常常使用鼓风脱气和真空脱气装置,近年来,膜脱气工艺发展非常迅猛,在高纯水领域已经开始有了广泛应用,同时也有不少纯水工艺采用了树脂催化法除氧。本文分别对五种不同的脱气装置作了介绍和对比。关键词:脱气器;脱气塔;纯水;溶解氧;树脂中图分类号:TN305文献标识码:AThe
2、ComparisonofFiveKindsofDegasifiersinPurewaterApplicationLiuXinqinq(AstrazenecapharmaceuticalCo.,Ltd.WuxiJiangsu.214028)Abstract:Theforceddraftdecarbonatorandthevacuumdegasificationcolumnareoftenusedtodeaerateinpurewaterprocessbefore.Butthemembranedeaerationprocessdevelopsve
3、ryfastrecently.Andithasbeenusedinultrapurewaterarea.However,catalystcolumnisusedtodeoxygeninmanypurewaterprocess.Theintroductionandcomparisionaboutthemarediscussedhere’in.Keywords:Deaeration;Degasifier;Purewater;DissolvedOxygen;Resin;产生氯仿、三卤甲烷(THM)等卤代烃。有些气体的存在对集成电路的生产有着严重的影
4、响,有些气1引言体影响着其他后续设备的运行周期和产品水质。从在当今信息化时代,微电子的产品周期每两年而,形形色色的脱气工艺产生了。翻一番,对高纯水的要求也变得越来越高(见表1),在锅炉、电厂等行业,溶解氧的存在是造成热从而促进了纯水处理技术的一次又一次的变革,水力设备(如汽轮机等)腐蚀的主要原因,导致锅炉处理工艺越来越先进,脱气装置也不例外。在运行或停用期间的氧腐蚀,所以国家对锅炉的补自然界中的水除了含有盐分、胶体、颗粒、微给水溶解氧也作出了相应规定,比如:锅炉额定蒸生物外,还溶解有很多气体,比如氧气,二氧化碳、发量大于6m/h的锅炉均要除氧
5、,额定蒸发量小于氮气、甲烷等,由于一般水厂采用氯气消毒,从而6m/h的锅炉应尽量除氧,而且16MPa以下的锅炉给收稿日期:2003-05—12维普资讯http://www.cqvip.com第2期刘新庆:纯水应用中扛冲脱气装置的比较水溶解氧含量必须小于100ppb,1.6-2.5MPa的锅炉和以看出,锅炉电力行业中,溶解氧含量已接近微电供汽轮机用汽的锅炉给水含氧量必须小于50ppb,而子行业的要求,脱气也成了其补给水处理的一项重一般高压锅炉的溶解氧含量需要小于7ppb。由此可要工艺。表1DRAM集成度与超纯水水质要求值的代表例DRAM集成度(
6、b)256klM4Ml6M64M256M(推测)G(推测)特征尺寸(IXm)1.21.00.80.50.25~0.350.180.15电阻率(Mn·cm)≥l7.0≥l7.5≥l8.0≥l8.1≥l8.2≥l8.2≥l8.2颗粒(IXm)≥0.2≤l00(颗/m1)≥0.1≤lO≤5≥0.05≤5≤l≤l≥0.03≤l0≥0.02≤l0≤l活菌(cfu/1)≤10o≤5O≤IO≤I≤O.I≤O.I≤0.ITOC(IXgC/1)≤l00≤5O≤l0≤2≤l≤l≤0.1Si(ixgSi/1)≤lO≤5≤5≤l≤0.1≤O.1≤0.1Na(IXgN
7、a/1)≤0.5≤0.05≤0.0l≤0.005≤0.00l≤0.Ooo5C1(ixgC1/1)≤0.5≤0.o5≤0.0l≤0.005≤0.005≤0.005重金属(IXg,a)≤l≤O.5≤0.1≤0.0l≤0.005≤0.00l≤0.Ooo5DO(IXgO/1)≤l00≤l00≤50≤l0≤5≤2≤l方气体的分压,就能计算出水中溶解的气体的含量。2技术背景表2空气中气体的含量(体积比)气体含量%2.1道尔顿分压定律氮气78.O3混合气体中气体的总压力和每种气体的分压遵氧气20.99循道尔顿分压定律,其具体含义是,气体的总压P氩气0.93
8、3等于组成该混合气体的分压的总和,混合气体中各二氧化碳0.030种组份的分压又与其所占的摩尔分数成正比,所以氢气O.Ol道尔顿分压定律可以用以下两个方程式来表示:氖
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