摄像头工艺流程图

摄像头工艺流程图

ID:5378169

大小:6.07 MB

页数:29页

时间:2017-12-08

摄像头工艺流程图_第1页
摄像头工艺流程图_第2页
摄像头工艺流程图_第3页
摄像头工艺流程图_第4页
摄像头工艺流程图_第5页
资源描述:

《摄像头工艺流程图》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在应用文档-天天文库

1、D-MaxTechnologyCo.,Ltd.CameraModuleIntroduction公司標誌Index1.CameraModuleIntroduction2.CameraModule2.CameraModule主要元件構成主要元件構成3.CameraModule3.CameraModule生產工藝流程生產工藝流程4.CameraModule4.CameraModule检验管控重点检验管控重点5.CameraModule使用注意事项1、CameraModuleIntroductionCameraModu

2、leBlock信號腳位描述信號腳位描述ImageArray(DotMatrix)2.CameraModule主要元件構成CameraModule元件分佈CameraModule是由以下主要元件所組成的:※Lens※EEPROMorFlash※Sensor※DSP※Crystal※除了這些元件外,剩下的大多是電容、電阻或電感之類的被動元件。CameraModule元件分佈※除了這些元件外,剩下的大多是電容、電阻或電感之類的被動元件。Lens模組簡介Lens是用來將影像捕捉後呈現在Sensor上的重要原件,Lens

3、的品質與影像的呈現有著相當大的關係。組成Lens的相關元件如下:IRFilter:用來過濾紅色以外的光線,因紅外線會影響到Sensor的感應,且人眼本來就看不到紅色以外的光線,所以利用IRfilter來過濾紅外線。CoverGlass:防護用玻璃層,用以隔離IRfilter與Sensor。ImagePlane:影像呈現的區域。Lens工作方式※圖中為被攝物透過Lens呈現在感光原件上的情形,影像將會呈現完全反相。一般而言Lens是由玻璃(Glass)或塑膠(Plastic)的材質所製造的,也可合併使用,如兩層塑

4、膠加一層玻璃。玻璃材質擁有比塑膠材質更佳的影像品質,但相對的玻璃成本較為昂貴。解析度在CIF(352X288)時,僅用一層塑膠即可,而VGA(640X480)則需要兩層材質,到了1.3M(1280X1024)則需要用到三層**。**目前已有光電廠可開發出使用在1.3M的Lens,且僅需兩層材質。EEPROM&FLASHEEPROM全名為ErasableProgrammableROM,是一種非揮發性的記憶體(NVRAM),用於儲存Cameramodule的Firmwarecode。使用的傳輸介面為市面上較普遍的I

5、2C。FLASH與EEPROM相類似,一樣是用來儲存Firmwarecode的裝置,擁有比EEPROM更多的優點。傳輸介面為SPI,但因SPI介面還不普遍,所以在Cameramodule上大多還是使用EEPROM,即便是FLASH比EEPROM擁有更多的優點。EEPROM&FLASH差異EEPROMFLASH容量較小較大價錢較高較低速度慢快傳輸介面I2CSPI傳輸時脈400KHz3.75MHz耗電量比較省電比較耗電※因為EEPROM使用的I2C介面有著高相容性,且業界普遍皆使用I2C來當作IC的溝通介面,所以目

6、前許多的CameraModule還是使用EEPROM來儲存Firmwarecode,但近年來FLASH提供了相當多EEPROM沒有的優點,所以已經有些許CameraModule逐漸的導向使用FLASH來儲存Firmwarecode。SensorSensor是用以感測光線再將其轉為電子訊號的裝置。而Sensor可以分為CMOS與CCD兩種不同的種類。而不論是CMOS或CCD都是用矽感光二極體來進行光與電的轉換,所以光線越強,訊號也會越強。因CMOS與CCD本身的工作原理就有相當大的差異,相對的CMOS與CCD也各

7、有不同的優缺點。在影像科技發展的早期,大多數高階的影像裝置(如數位相機,數位攝影機等)多是採用CCD為主要感光元件,相較之下CMOS的產品多半被認為是影像裝置的次級品,但目前已有相當多的高階影像裝置已經改採用CMOS為主要的感光元件。CCD和CMOS定義CCD(ChargeCoupleDevice)定义:即电荷耦合器件,它是目前比较成熟的成像器件,是以行为单位的电流信号。CCD上感光元件的表面具有儲存電荷的能力,並以矩陣的方式排列。當其表面感受到光線時,會將電荷反應在元件上,整個CCD上的所有感光源件所產生的訊

8、號就構成了一個完成的畫面。CMOS(ComplementaryMetal-OxideSemiconductor)定义:即互补型金属氧化物半导体。它被看作未来的成像器件,因为CMOS结构相对简单,与现有的大规模集成电路生产工艺相同,从而生产成本可以降低。从原理上,CMOS的信号是以点为单位的电荷信号,更为敏感,速度也更快,更为省电。现在高级的CMOS并不比一般CCD差,但是CMOS工艺还

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。