基于电参数的AZ91D镁合金微弧氧化膜层厚度分析研究-论文.pdf

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1、·机械研究与应用·2014年第5期(第27卷,总第133期)摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇应用与实验*基于电参数的AZ91D镁合金微弧氧化膜层厚度分析研究贾金龙(兰州工业学院材料工程学院,甘肃兰州摇730050)摘摇要:根据镁合金微弧氧化微区电弧放电机理、微弧氧化的三个阶段理论,并根据实验中出现的,保持电压恒定时,在微弧氧化处理初期电流不断下降,后期电流保持稳定或微升这一现象,拟合出负载阻抗随时间变化的三次方程,从而实现了在实验过程中的膜层厚度监测,具有一定的工程应用价值。关键词:镁合金;微弧氧化;膜层中图分类号:TG174摇摇摇摇摇摇

2、文献标志码:A摇摇摇摇摇摇文章编号:1007-4414(2014)05-0093-03AnalysisandResearchonThicknessofMicro-ArcOxidationFilminAZ91DMagnesiumAlloyBasedontheElectricalParametersJIAJing-long(DepartmentofMaterialsEngineering,LanzhouInstituteofTechnology,LanzhouGansu摇730050,China)Abstract:Basedonthemicro-

3、dischargemechanismofmicro-arcoxidation(MAO)ofmagnesiumalloysandthethree-stagetheoryofmicro-arcoxidation,andaccordingtothephenomenonoccurredinexperiments,whichis,whileaconstantvoltageismaintained,currentkeepsdecliningatthebeginningofmicro-arcoxidationandbestableorincreasessl

4、ightlyatthelatermi鄄cro-arcoxidation,atime-varyingloadimpedancecubicequationisfittedout,thusthefilmthicknessmonitoringduringex鄄perimentscouldberealized,andithasacertainvalueinengineering.Keywords:magnesiumalloy;micro-arcoxidation(MAO);film0摇引摇言实验采用频率为667Hz,在处理时间相同时终值电微弧氧化(MA

5、O)是一种表面处理技术,其原理压不同和电压增加速率相同处理时间不同两种情况是对置于特定溶液中的铝、镁、钛等轻金属及其合金下实验,通过观察电弧形态来研究微弧氧化膜层厚度加载高电压,使其表面发生电弧放电,在一系列反应的变化规律。并从微区机理上来解释镁合金微弧氧的共同作用下生成具有高硬度、高结合强度、耐磨、耐化膜层厚度为何能监测。[1-5]蚀等特点的与基体结合牢固的陶瓷膜层。微弧1摇实验方法氧化技术具有简单环保、陶瓷膜层耐蚀耐磨硬度高等实验采用自行研制的脉冲电源,实验平台如图1,优点,是最有前途的表面处理方法之一。该技术在航由主电路、控制电路、过程

6、控制单片机系统、传感器、示天航空、机械和汽车领域有广阔的应用前景。目前微波器及计算机在线监控系统构成。试验平台还包括电弧氧化技术在一汽集团、哈尔滨迪思数控、成都普斯解槽及电解液搅拌、温度检测、循环冷却等装置。特、富士康等单位得到推广或应用。从微弧氧化的研究状况来看,其研究重点主要集中在电解液配方、电参数对膜层性能的影响及膜层生长机理等方面,但很少有人在膜层厚度监测方面做过相应研究,实验室曾经尝试用神经网络建模的方式来预测膜层厚度,但由于影响微弧氧化膜层厚度的因素很多,导致神经网络所需的样本量非常大,前期需要大量的工作才能建立一个相对较粗糙的模

7、型,且精度达不到相应的要求。在生产应用中,一般都是通过控制微弧氧化时间来控制膜层厚度,这种方法生产出来的膜层厚度相差很大,且不利于控制成本。笔者针对AZ91D镁合金在硅酸盐溶液下的微弧图1摇微弧氧化实验装置示意图氧化实验。采用自行研制的带放电回路脉冲电源。*收稿日期:2014-10-13作者简介:贾金龙(1983-),男,甘肃渭源人,助教,主要从事弧焊电源、微弧氧化工艺等方面的研究。·93·应用与实验摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇摇2014年第5期(第27卷,总第133期)·机械研究与应用·摇摇实验采用AZ91D商用镁合金,其化学成分见表

8、致密,有许多微小的裂纹,并裸露出镁合金表面,在通1,试样尺寸为准30伊10mm。使用前经1500目砂纸电溶液中会形成微小导电通道,该通道就是电弧放电去除自然氧化膜、

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