今明两年节能减排降碳目标确定-论文.pdf

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1、·50·中国有色冶金A生产实践篇·多晶硅合后，经进料预热器进入反歧化反应器，在一定温氯化硅氢化工序和三氯氢硅合成工序的歧化反应副度、压力条件和催化剂(弱碱性胺基阴离子树脂)的产大量的二氯二氢硅，如果不能有效抑制其产生和作用下反应生成三氯氢硅，具体反应如下：减小在系统内的累积，将会对系统的稳定性和安全SiC14+Sil2C12=2SiHC13(4)性产生很大影响。通过计算，1000t多晶硅生产系产物氯硅烷?昆合物经提纯塔分离，二氯二氢硅统每小时约产生126L二氯二氢硅。目前在生产和四氯化硅返回反歧化系统，三氯氢硅进入精馏工

2、中，将产生的二氯二氢硅分别应用于氢化工序和还序，为还原炉提供高纯原料。原工序来减少二氯二氢硅的产生量，同时引入反歧3．4用于制造硅烷(Sil)化系统消耗多余的二氯二氢硅。另外，二氯二氢硅硅烷是生产多晶硅的一种原料，用硅烷生产多还可以用来开发新的产品，比如Sil、Si，N和SiO：晶硅具有反应温度低、生长速度快和能耗低的特点，薄膜等。在目前多晶硅产品价格低、能源紧张的形势下，用硅[参考文献]烷生产多晶硅是一种很好的选择。生产硅烷的方法[1]LiKY，HuangCDRedistributionreactionoftrichl

3、orosilaneinafix．bedreactor~J]．1ndEngChemRes，1988，27：1600—1606．主要有两种：一是日本小松电子公司(我国浙江大[2]Jean—LucLepage，GerardSoula．Processforthedisproportionati0n学也采用此法)的硅化镁法；另一种就是美国联合ofsilanes[P]．US：458917，1985．碳化物公司(UCC)的三氯氢硅的二次歧化法，反应[3]ReinhardMatthes，ReinholdSchork，Hans—Joach

4、imVahlensieck．方程式如下：Methodandapparatusforthepreparationofdichlorosilane[P]3Sil2C12：2SiHC13+Sil4(5)US：5026533，1991．3．5生产SiN[4]于剑昆．而氯硅烷的生产与开发[J]无机盐工业，2005，37(5)：12—14．利用二氯二氢硅生长的氮化硅钝化薄膜是制造[5]PopenkoVF，GeneralovaSA，ElremovEA，eta1．Possibleprepa—大规模集成电路工艺中的一个重要环节，尤其是在r

5、ationofdichlorosilanebydirectsynthesis[J]．ZhPriklKhim双极集成电路中显得更为重要，反应式为：(Leningrad)，1982，55(2)：389～3943Sil2C12+4NH3=Si3N+6HC1+6H2(6)[6]KalluriRSarma，CharlesSChanley．Processforthehydrogena—tionofsilicontetrachloride[P]．WO：85／04389A1．1985～10—4结论1f1多晶硅生产系统内的三氯氢硅氢还原工

6、序、四ProductionofdichlorosilaneinpolysiliconproductionsystemanditsapplicationXIAORong—hui，ZHAOXiongAbstract：Themethodofproductionofdichlorosilanewasintroduced．Takingtheproductionsystemof1000Tpoly—siliconasanexample，thereductionprocess，hydrogenationprocessofsilicont

7、etrachloride，synthesisprocessoftri—chlorosilane，andthedichlorosilaneyieldofwholesystemwerecalculated，andtheapplicationofdichlorosilaneby—producedfrompolysiliconsystemwasdiscussed．Keywords：polysilicon；dichlorosilane；production；application今明两年节能减排降碳目标确定国务院办公厅印发(201

8、4-2015年节能减排低碳发展行动方案》(以下简称《行动方案》)，进一步硬化节能减排降碳指标、量化任务、强化措施，对今明两年节能减排降碳工作作出具体要求。《行动方案》提出了今明两年节能减排降碳的具体目标：2014～2015年，单位GDP能耗、化学需氧量、二氧化硫、氨氮、氮氧化物排放量分别逐年下降3．9％、2％、2％、