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1、Vo1.40No.3化工新型材料第4O卷第3期·1OO·NEWCHEMICALMATERIALS2012年3月Ti靶及TiO2靶溅射TiO2薄膜微观形貌、结构及光学性质研究张笑妍邢杰巩毛毛卫会云郝会颖(1.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京100083;2.中国地质大学(北京)矿物岩石材料开发应用国家专业实验室,北京100083)摘要利用射频磁控溅射技术通过r¨靶及TiOz靶在氩氧气氛中同时溅射制备TiOz薄膜,并对所得的样品进行不同温度的退火处理。采用X射线衍射、扫描电子显微镜、拉曼光谱和吸收谱研究了不同的
2、靶材及退火温度对TiO薄膜晶体结构、微观形貌及光学性质的影响。结果表明:由于靶材的不同,,rj靶溅射时氧分压较低,造成薄膜中存在大量的氧缺陷,晶相发育不完善,颗粒相比Ti靶溅射时较小,从XRD和拉曼光谱来看,靶溅射得到的TiO薄膜更有利于金红石相的形成。薄膜的透过率随退火温度的升高而降低,TiO。靶材溅射的薄膜的光学带隙随温度升高而明显降低,而,ri靶得到的薄膜的光学带隙对退火温度的依赖关系不明显。关键词Ti()2薄膜,退火,锐钛矿,金红石Studyonthemorphology,structuralandoptica
3、lpropertiesofTiOzthinfilmssputteredbyTitargetandTio2targetZhangXiaoyanXingJie’GongMaomaoWeiHuiyunHaoHuiying(1.SchoolofMaterialsScienceandTechnology,ChinaUniversityofGeosciences,Beijing100083;2.NationalI.aboratoryofMineralMaterials,ChinaUniversityofGeosciences,Be
4、ijing100083)AbstractTiO2thinfilmsweredepositedonmelted—quartzsubstratethroughTitargetandTiO2targetonthesameargon—oxygenatmospherebyRFmagnetronsputteringmethod,whichwerethenannealedatdifferenttemperatures.Themorphology,crystalstructureandopticalpropertiesofthesam
5、pleswerestudiedusingX-raydiffraction,scanningelectronmicroscope.RamanspectroscopyandUVVisspectra.Theexperimentalresultsshowedthatastheannealingtemperatureincreaseing,thecrystalgrainsincreasedapparentlyandTiO2thinfilmstransformedfromanatasetorutileatabout700centi
6、grade.Inaddition,thereweremoreoxygenvacanciesexistingintheTiOzthinfilmssputteredbyTitarget,whichlimitedthecrystalgrowthgreatly.FromXRDandRamanspectra,wecandeducethatrutilewaseasiertodevelopinTiO2filmsthananataseduringTitargetsputtering.Withtheincreasingofanneali
7、ngtemperature,thetransmittanceoffilmsdecreased,andatthesametimethebandgapofTiO2filmfromTi()2targetdecreasedalotandthatfromTitargetchangedlittle.KeywordsTi()2thinfilm,annealing,anatase,rutileTi02薄膜具有许多优良特性,如可见光范围内光透过率膜的制备中。射频磁控溅射法生长TiOz薄膜通常有两种方高、折射率高、化学稳定性好、光催化性及
8、光诱导亲水性等,在式:TiO。靶原位生长TiO薄膜和Ti靶在氧气氛下生长得到清洁涂料、气体传感器、光降解染料、太阳能电池等领域有广TiO:薄膜。Hasan等利用rri靶制备了TiO。薄膜,研究了基泛的应用[。。。TiO有3种晶相:锐钛矿(A相)、金红石(R底温度及退火温度对薄膜结构、光学性质的影响。Eufinger相)和板钛矿(B
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