直接酸浸与焙烧酸浸钒萃取行为的研究.pdf

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1、·3O·有色金属(冶炼部分)(http://ysy1.bgrimm.cn)2014年第5期doi:10.3969/j.issn.1007—7545.2014.05.008直接酸浸与焙烧酸浸钒萃取行为的研究王非,张一敏,刘涛,黄晶。,李道(1.武汉科技大学资源与环境工程学院,武汉430081;2.湖北省页岩钒资源高效清洁利用工程技术研究中心,武汉430081)摘要:对某石煤矿采用直接酸浸和焙烧酸浸处理,并考察不同浸出过程中氟化物加入的影响。结果表明,该石煤适宜采用含氟化物作用的直接酸浸一萃取工艺,钒浸出率可达92.39%,预处理钒损失率为1.12,每吨Vz()j的CaO耗量为6.38t,

2、钒萃取过程正常且三级萃取率达到98.O5%。不同浸出工艺及是否加入氟化物对钒萃取过程有较大的影响:无氟化物加入的直接酸浸使石煤原矿中的有机物引入酸浸液,形成界面膜而导致乳化现象产生;空白焙烧可消除有机物的影响,但由于酸浸溶液中的杂质元素含量显著增加而可能导致乳化现象;氟在溶液中以[AIF]和[-SiF]形式存在,可阻止含硅胶体和细微颗粒以及界面膜的生成,有利于萃取正常进行,但当溶液中杂质元素含量过高时,仍可能产生乳化。关键词:直接酸浸;焙烧酸浸;钒;萃取;石煤中图分类号:TG142.71文献标志码:A文章编号:1007—7545(2014)05—0030—04SolventExtrac

3、tionBehaviorofVanadiumfromDirectAcidicLeachingandRoastingAcidicLeachingWANGFei,ZHANGYi—min,LIUTao~,HUANGJing~,LIDao(1.CollegeofResourcesandEnvironmentalEngineering,WuhanUniversityofScienceandTechnology,Wuhan430081,China2.HubeiProvincialEngineeringTechnologyResearchCenterofHighEfficientCleaningUt

4、ilizationforShaleVanadiumResource,Wuhan430081,China)Abstract:Stonecoalwasdirectacidiclcachedandroastingacidiclcachedrespectively.Theeffectsofintro—ducingfluorideintoleachingsystemsonvanadiumextractionwereinvestigated.Theresultsshowthatitisreasonabletoadoptdirectleachingwithfluorideandsolventextr

5、action.Theleachingrateofvanadiumis92.39,pre—treatmentlossefficiencyofvanadiumis1.12,CaOconsumptionis6.38tpertonV2O5,andathree—stagecounter—currentsolventextractingefficiencyofvanadiumis98.05withstableproce—dures.Furthermore,thechoicebetweenthetwoprocessesandintroductionoffluorideinto1cachingsys—

6、temhadsignificanteffectsonsolventextractionofvanadium.Directacidicleachingmayintroduceorganicsfromstonecoalintoaqueoussolution.Theorganicsforminterfacialmembraneduringsolventextraction,whichisanimportantfactortoproduceemulsification.Blank—roastingcanremoveinfluenceoforganics,butincreasecontentso

7、fvariouselementsotherthanvanadium,whichmayalsocontributetoemulsifica—tion.Existingintheformof[A1F5]。卜and[SiF6]卜,fluorinecanfacilitatesolventextractionbyhinderingproductionofsilicon—bearingcolloids,fineparticlesandinterracial

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