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1、第22卷第20期中国给水排水Vol.22No.202006年10月CHINAWATER&WASTEWATEROct.2006台湾某半导体企业的废水处理工程实例123王晓云,付爱民,李景(1.福建工程学院环境与设备系,福建福州350007;2.志品<福州>技术工程有限公司,福建福州350015;3.台湾大学工学院,台湾台北106)摘要:根据半导体工业废水的特点,将其分为无机(氟系)废水、有机废水、酸碱废水三部分,分别采用化学混凝、MBBR反应池、中和等方式进行处理,处理后合流排出。简述了各构筑物的设备配置、设计参数等,该工程采用全过程计算机控制,自动化程度高,处理
2、效果较好。关键词:半导体企业废水;化学混凝;MBBR反应池;中和中图分类号:X703.1文献标识码:C文章编号:1000-4602(2006)20-0073-04AProjectCaseofTreatingSemiconductorIndustryWastewaterinTaiwan123WANGXiao2yun,FUAi2min,LeeJing(1.Dept.ofEnvironmentandEquipment,FujianUniversityofTechnology,Fuzhou350007,China;2.CotechEngineeringFuzhouCor
3、p.,Fuzhou350015,China;3.CollegeofEngineer2ing,TaiwanUniversity,Taibei106,China)Abstract:Accordingtothecharacteristicsofsemiconductorindustrywastewater,itcanbedividedintothreeparts:inorganic(fluorineion)wastewater,organicwastewater,acidandalkalinewastewater,whicharetreatedbychemicalco
4、agulation,MBBR,andneutralizationprocessesseparately,theeffluentisdischargedthroughcombinedsystem.Thelayoutanddesignparametersofstructuresareoutlined.Forusingcomputercontrolinfullprocess;ithashighautomatedlevelandbettertreatmentefficiency.Keywords:semiconductorindustrywastewater;chemi
5、calcoagulation;MBBR;neutraliza2tion台湾某半导体企业的废水处理工程设计处理规表1设计水质、水量以及排放标准43模为1.4×10m/d,总投资为2.5亿新台币,于Tab.1Designinfluentquality,capacityandeffluentstandard2005年2月开始运行,2005年5月通过新竹监测站水量/COD/BOD/F-/PO3-/SS/43监测验收至今运行良好。项目(m·pH(mg·(mg·(mg·(mg·(mg·-1)L-1)L-1)-1)-1L-1)hLL)该企业在建厂时充分考虑了废水处理要求,将无
6、机废水603～11≤400≤100≤450≤200半导体生产工艺流程中的废水大致分为无机(氟有机废水250/3502～10≤2300≤1000≤250系)废水、有机废水、酸碱废水三部分,分别处理以酸碱废水1502～11≤100≤100≤100达到排放标准。出水标准6～9≤150≤60≤6≤1≤301设计水质、水量注:有机废水并入TMAH(四甲基氢氧化铵,阳性型光3设计水质、水量见表1。致刻蚀剂)废水后为350m/h。·73·©1994-2009ChinaAcademicJournalElectronicPublishingHouse.Allrightsreser
7、ved.http://www.cnki.net第20期中国给水排水第22卷2工艺流程废水处理工艺流程见图1。图1废水处理工艺流程Fig.1Wastewatertreatmentprocess①无机(氟系)废水处理系统该系统主体为1座钢筋混凝土水池,内设进、出采用化学沉淀/絮凝沉淀/气浮处理工艺。向含水挡板提供稳定水流功能,另于池体出口附近安装氟废水投加CaCl2形成CaF2。然后加入Ca(OH)2流量计,水质达标后排入管网。3-调整pH值,使PO4形成Ca3(PO4)2,再投加PAC⑤化学加药系统-及高分子助凝剂使其形成污泥,从而去除F和液碱的投加采用回流加药方
8、式,过负载时液碱3-PO
