sncr脱硝工艺在新型干法水泥窑上的应用

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1、SNCIL脱硝工艺在新型干法水泥窑上的应用邢馨甘吴刘静-(1铜陵市环境监测中心站安徽铜陵2440002合肥水泥研究设计院安徽合肥230051)原剂流控制阀，实现对脱硝的自动控制。通过在不同负荷下的对还原剂流的调整，找到最佳的还原剂喷入量。还原剂流量可依温度和压力修正系数进行修正。在设计和启动期间，控制系统的特性用“查表”模型表示，建立NO浓度与氨水喷射量的对应关系，在正常运行期间，采取“查表”模型方法自动控制不同区域的喷射器与喷射流量日。水泥生产工艺演变到今天，已进入新型干法生产占主导地位2新型干法水泥生产线SNCR脱硝系统设计关键技

2、术的时代，但新型干法生产技术仍在发展完善中。由于熟料生产中，2．1反应条件绝大部分水泥工厂NO排放值均处在目前《水泥工业大气污染物不同还原剂有不同反应温度范围，温度范围称为温度窗。NH排放标准》(GB4915—2004)所规定的标准限值800mg／Nm附近，的反应最佳温度区为8501100％。当反应温度过高时，由于氨分有效降低新型干法水泥生产线氮氧化物的排放，将对提高环境质解会使NO还原率降低[31，另一方面，反应温度过低，氨逃逸增加，量具有重大意义，而目前国内外水泥窑脱硝主要以选择性非催化也会使NO还原率降低。为了提高脱NO的效率并

3、实现NH的还原(SNCR)法为主。逃逸最小化，应满足以下条件：在氨水喷人的位置没有火焰；在反1水泥窑SNCR系统工艺系统设备选型应区域维持合适的温度范围(850—1050~C)；在反应区域有足够的1．1SNCR系统工艺模块停留时间(至少0．5秒，900oC)。水泥窑SNCR脱硝系统由还原剂储存系统、输送模块、计量分2．2氨逃逸的控制配模块、喷射模块、控制系统以及CEMS监测系统组成。还原剂储SNCR系统存在氨逃逸。从烟囱逃逸的氨可能来自两种情况，存系统用来储存SNCR系统使用的还原剂，通过加压泵同时输送一是由于喷入点烟气温度低影响了氨

4、与NO的反应；另一种可能至稀释系统稀释后，最终被输送至喷雾系统。计量及分配装置就近是喷入的还原剂过量或还原剂分布不均匀。在控制氨逃逸方面可布置在喷射系统附近解炉或预热器平台上，通过对炉窑的实时工况采用在窑尾烟囱加装氨逃逸在线监测仪，实时监控氨逃逸，通过(如烟气量、NO及O：浓度等)进行分析，调整输送到喷射系统还原调整喷人的氨水浓度来控制氨逃逸指标。同时在系统各个环节中剂的流量。还原剂喷射系统主要由喷枪和相关部件组成，喷射位置减少氨水跑冒滴漏，在氨水储罐设置排气阀，排气阀后用水管连选择应满足以下条件：氨水喷入的位置没有火焰；在反应区域维

5、持接通至纯水储罐。合适的温度范围(850—1050~C)；在反应区域有足够的停留时间(不2．3SNCR系统氨利用率小于0．5S)。监测系统部分(CEMS)是根据窑尾在线监测仪的氮氧在反应温度区间内，还原剂的雾化效果和炉膛内还原剂与烟化物数值来对喷氨量进行控制，喷氨响应时间，提高喷氨效率和精气的混合均匀度直接关系到整个脱硝系统的脱硝效率H。喷枪是度，在窑尾烟囱设置氨逃逸监测仪，对氨逃逸监测。SNCR脱硝的关键设备，目前，绝大多数厂家都是采用双流体喷1．2SNCR系统控制部分枪，依靠压缩空气的推动力使氨水雾化。SNCR脱硝系统烟气脱硝控制

6、系统依据确定的NH3／NOX摩2．4SNCR控制系统尔比来提供所需要的还原剂流量，摩尔比的决定是在现场测试操SNCR系统主要设备相对较少，工艺流程简单，所以整个系统作期间来决定并记录在还原剂流控制系统的程序上。所计算出的环节中过程控制至关重要，通过合理设置顺序控制及连锁、模拟还原剂流需求信号送到控制器并和真实还原剂流的信号相比较，量控制、热工保护等控制环节，实现各节点参数可视化，操作中控所产生的误差信号经比例加积分动作处理去定位还原剂流控制化，运行自动化。阀，若还原剂因为某些连锁失效造成喷雾动作跳闸，届时氨气流2．5先进的喷射策略控制

7、阀关断。控制系统根据计算出的还原剂流需求信号去定位还喷射策略简单的说就是喷枪数量和布置方式的组合[51。通过《资源节约与环保》2013年第9期试验和实践，我们总结出适合水泥窑系统的高效喷射策略：在分2)喷入水量对窑系统热平衡说明解炉采用双层喷枪布置，每层6支，每层喷枪长短枪交替配置，两企业热平衡结果如下表2脱硝系统带人分解炉的水对系统热层喷枪长短枪投影相互交替的喷射策略。平衡有一定影响，但若考虑NH的反应热则影响非常小，对熟料般3SNCR工艺在新型干法生产线应用实例烧段烟气温度影响有限，进而不会对熟料产量及品质产生影响。表25000f

8、d水泥窑炉热损失下面以安徽某水泥厂已投运的一条新型干法生产线SNCR脱硝系统为例做相关的说明。该生产线为一条日产5000吨熟料的新型干法生产线，配套SNCR脱硝系统，还原剂采用25％氨水，最大耗量为860kg／h，NH3