安祖花杂交育种与基于组织培养的辐射诱变研究.pdf

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1、分类号S682.1+4学校代码10129UDC633学号08203042安祖花杂交育种与基于组织培养的辐射诱变研究HybridizedBreedingandtheResearchofEradiatingMutagenesisBasedonTissueCultureaboutAnthuriumandreanumLind.申请人：闫茂林学科门类：农学学科专业：园林植物与观赏园艺研究方向：园林植物与人居环境指导老师：张鸿翎副教授刘春副研究员论文提交时间：二○一一年六月摘要60本研究从杂交育种、叶片愈伤组织诱导以及不同剂量的Co-γ对愈伤组织的影响三方面对安祖花的培育方法进行探讨，其最终目的是

2、建立新品种最佳培养方法，使植株快速、良好、健康的发展。主要结论如下：（1）安祖花花粉萌发力液体培基最佳组合为蔗糖100g/l+硼酸20mg/l+氯化钙40mg/l；花粉储藏最佳条件为温度25℃，储藏时间七周以内。通过对安祖花的十个品种进行杂交，认为最适合作母本的品种是阿拉巴马、火焰、北京成功和国王红，十个品种中只有水晶花烛与其它品种不亲和。（2）对安祖花品种火焰（H1）和国王红(H2)的叶片进行外植体愈伤组织诱导处理，认为使用75%酒精冲洗20s+10%次氯酸钠浸泡15min对外植体灭菌最彻底。品种H1的最佳培养基是MS+2,4-D2.0mg/l+6-BA2.0mg/l+IBA1.0m

3、g/l+蔗糖3%+琼脂7.5g/l且pH值在5.8-6.0之间，品种H2的最佳培养基是MS+2,4-D1.0mg/l+6-BA1.0mg/l+IBA0.1mg/l+蔗糖3%+琼脂7.5g/l且pH值在5.8-6.0之间。品种H1芽分化诱导最适培养基为MS+6-BA0.5mg/l+NAA0.5mg/l+蔗糖3%+琼脂7.5g/l，pH值在5.8-6.0之间；品种H2芽分化诱导最适培养基为MS+6-BA0.5mg/l+NAA0.5mg/l+蔗糖3%+琼脂7.5g/l。60（3）用不同剂量的Co-γ辐射安祖花火焰（H1）和国王红（H2）愈伤组织，结果显示品种H1在辐射剂量80Gy下全部褐化，

4、品种H2在90Gy下全部褐化。品种H1的半致死剂量约为24Gy，品种H2的半致死剂量约为36Gy。并且通过对不同剂量下辐射的愈伤组织进行超氧化物歧化酶(SOD)、过氧化酶(POD)与过氧化氢酶(CAT)测定，结果表明辐射后的愈伤组织的酶的活性均呈现降低的趋势。60关键词：安祖花；愈伤组织诱导；Co-γ辐射；半致死剂量；酶的活性HybridizedBreedingandtheResearchofEradiatingMutagenesisBasedonTissueCultureaboutAnthuriumandreanumLind.AbstractTheresearchdiscussedt

5、hefostermethodofAnthuriumandreanumLind.fromthreeaspects,theywerehybridizedbreeding,callusabductionofleavesandtheeffectof60differentiationtissueindifferentdosageofCo-γ.Thefinalobjectswereestablishingthebestbreedingmethodofnewvarietyandmakingtheplantsdevelopedrapidly,favorablyandhealthily.Themainr

6、esultsweremadeasfollows:(1)Thebestcombinationofsubstrateofdustbourgeonratewasthatsucrosewas100g/l,boracicacidwas20mg/landCaCl2was40mg/l.Thebestconditionofduststoragecontainedtemperature25℃andstoragetime7weeks.Throughhybridizingamongthe10varietiesofflowers,A1,H1,B1andH2wereconsideredthattheyweref

7、ittoasparent,andS1wasaffinewithothers.(2)Byresearchingdifferentiationtissueabductionofexplant,wemaintainedtouse75%alcoholtowash20secondsand10%NaClOtomarinate15minutescanperishfunguscompletely.ThebestsubstrateofH1includedMS,2