PVAP(AA—AM)水凝胶的制备及药物控制释放性能研究.pdf

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1、第27卷第1期化学研究与应用Vo1．27，No．12015年1月ChemicalResearchandApplicationJan。，2015文章编号：1004—1656(2015)01—0056-07PVA／P(AA—AM)水凝胶的制备及药物控制释放性能研究任杰，顾金芬，张小燕，杨晓慈，杨武(西北师范大学化学化工学院，甘肃省生物电化学与环境分析重点实验室，甘肃兰州730e70)摘要：以聚乙烯醇(PVA)、丙烯酸(AA)和丙烯酰胺(AM)为单体，过硫酸铵(APS)为引发剂、N，N亚甲基双丙烯酰胺(MBA)为交联剂，通过化学引发聚合制备互穿水凝

2、胶PVA／P(AA—AM)；用红外光谱(IR)、热重分析(TG)、差示扫描量热法(DSC)及扫描电镜(SEM)等测试方法对其进行了表征，并对其溶胀性能、pH敏感性以及离子强度对溶胀性能的影响进行了研究；并考察了该凝胶分别在pH=6．86和pH：1．80介质中对药物异烟肼和烟酸的控制释放行为。结果表明，PVA／P(AA—AM)水凝胶具有良好的pH、离子强度敏感性，在两种介质中异烟肼的累积释放率均高于烟酸，但异烟肼在pH=1．80的介质中的释放速度和累积释放率均高于其在p}{=6．86的介质，烟酸则结果恰好相反。所以这种水凝胶有望用作靶向药物释放

3、的载体。关键词：PVA／P(AA．AM)水凝胶；pH敏感性；药物缓释中图分类号：0632．52文献标志码：ASynthesisofPVA／P(AA—AM)hydrogelsanditsdrugreleasebehaviorsRENJie，GUJin—fen，ZHANGXiao—yah，YANGXiao—ci，YANGWu(CollegeofChemistryandChemicalEngineering，NorthwestNormalUrdvemity，KeyLabofBioelectrochemistryandEnviron,nentalAn

4、alysisofCansu，Lartzhou730070，Gansu，China)Abstract：PVA／P(AA—AM)IPNhydmgelwassynthesizedbywatersolutionpolymerizationwithpolyvinylalcohol(PVA)，acrylicacid(AA)andacrylamide(AM)asthemonomemand(NH4)2S2O8，BISastheinitiatorandcrosslinker，respectively．ThehydrogetwascharacterizedbyT

5、G／DSC，胛IRspectrumandSEM．rileswellingproperties，theeffectsofionicstrength，monomercontentinPVA／P(AA-AM)hydrogelsandpHvaluesontheswellingratiowere"alsoinvestigated．Inaddition，thecharacteristicfordrugdeliv—crywasstudiedusingI~nicotinylhydrazide(INH)a

6、】dnicotinicacidasthemodeldr

7、ugindiferentpHbuffersolutionswithThere—suitsshowedthatPVA／P(AA—AM)hydrogelshadgoodsensitivityforpHvaluesandionicstrength．ThecumulativereleasealnountsofINHarehigherthanthatofVB3bothinpH=6．86andpH：1．80media．However，thecumulativereleaseamountsofINHishigherandthereleaserateisqu

8、ickerinpH=1．80solutionthanwhichinpl：I=6．86solution．TheresultsofVB3arediferentCOrn—pletelyfromINH．Thereforethepreparedhydrogelisexpectedtobeusedasthecarrierofdrugrelease．Keywords：PVA／P(AA—AM)hydrogels；pHsensitivity；drugcontrolledrelease水凝胶是一种能够在水中溶胀但又不溶解于针对环境的变化能产生榴应的反应¨j。这类

9、水凝水且具有亲水基团的三维网络结构的高分子材胶的主链或侧链上含有可解离的亲水吲，对料。智能水凝胶能响应周围环境的微小变化、并pH、温度、离子强度、电场及光强度等因素