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时间:2020-03-26
《基于氧化锆的980nm垂直腔面发射半导体激光器增透膜的研究.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在工程资料-天天文库。
1、分类号UDC:密级编号基于氧化锆的980nm垂直腔面发射半导体激光器增透膜的研究Thereaserchof980nmVCSEL'sAR-coatingbasedonZr02学位授予单位及代码:监101—86—)学科专业名称及代码:一出生(QZQ2Q22研究方向:邀些垫堡生堑型鲞&苗透申请学位级别:砸±孽,羔教师:』型墼嵫研究生;韭主魅论文起止时问:2Q!Q:生兰Qll:12长春理工大学硕士学位论文原创性声明本人郑重声明:所呈交的硕士学位论文,《基于氧化锆的980nm垂直腔面发射半导体激光器增透膜的研究》是本人在指导
2、教师的指导下,独立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。作者簦名龇迎年—主月上螽长春理工大学学位论文版权使用授权书本学位论文作者及指导教师完全了解“长春理工大学硕士、博士学位论文版权使用规定”,同意长春理工大学保留并向中国科学信息研究所、中国优秀博硕士学位论文全文数据库和CNKI系列数据库及其它国家有关部门或机构送交学位论文的复印件和电子
3、版,允许论文被查阅和借阅。本人授权长春理工大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,也可采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编学位论文。作者签名导师签名。&丛年』月』日址年土月∈巫17垃≈、/芝~一摘要垂直腔面发射激光器(VerticalCavitySurfaceEmittingLasers,简称VCSEL)是一种发展潜力很大的激光源。其优点在于发散角小,转换率高,调制速度快,阐值低,噪声小。由于VCSEL其各以上多种不可比拟的优点,使它在光互连、激光打印、气体检测、显示方面得以广范的应用,因此
4、对VCSEL的功率要求也越来越高.而在出光窗口处制备高质量的增透膜有很大的应用价值。本文的主要工作是设计和制备适用与980nmVCSEL出光窗13处的增透膜:首先根据激光器波长和功率的特性,经过理论计算,确定一种新的膜料氧化锆(Zr02),确定新的膜料以后,用大众中文软件进行设计。再根据有限元法用ANSYS软件对Zr02薄膜沉积在基片GaAs时的残余应力和温度之间的关系进行模拟分析,根据以往掌握的镀制Zr02薄膜的一些经验和实验来确定镀制过程中影响膜层性能的主要参数进行确定。晟后完成激光器的后续工艺,并对薄膜的透射
5、率和镀膜后的激光器功率以及光谱进行测试-通过进行受激实验证明腔面膜对延长激光器的寿命也有很重要的意义。关键词:增透膜VCSEL有限元法离子柬辅助电子束蒸发法受激实验VerticalcavitysurfaceemittinglasershavealotofpotentialfordevelopmentaslasersourcesIthasmanystrongpoints,forexample:lowdivergenceangle;highfiber-couplingefficiency;lownoiseeffect;
6、highconvertionefficieneyandlowthresholdcurrentWithincomparableadvantagesabove,VCSELscanbeappliedinlightcommunication,laserprintingandgasmeasuringTherefore,therequiementoflaserpowerisincreasingSoitisofgreatmeaningtomakethehighquailtyARco乱ingontheoutputmirrorThe
7、mainworksofthispaperaredesignandproparetheARcoatingontheoutputmirror:Firstly,accordingtothecharacteristicsofthelaserwavelengthandpowerthecomingisdesignedbysoftwarethroughtheoreticalcalculationstodetermineanewmaterrial(Zr02)Secondly,therelationshipbetweentempar
8、atureandintemaIstresswasanalysedaccordingtoFEMbythesoftwareofANSYSThenbasedontheexperienceofARcoatingandmanyexperiments,theparametersofexperimentWel'edeterminedAtlast.thefollow-upp
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