资源描述：
《单晶硅生产废水处理站的改扩建secret.doc》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、单晶硅生产废水处理站的改扩建摘要：本文介绍了某单晶硅生产过程中各工序产生废水的水量,水质及性质情况,并原废水处理站存在的问题进行分析.在原废水处理站的基础上,对改扩建后的废水进行处理.采用生铁屑和焦炭组成微电解氧化还原塔,作为单晶硅生产废水处理的预处理,取得较好的效果.关键字：单晶硅 废水 治理 微电解氧化还原塔 1概述 某单晶硅厂由于引进6英寸单晶硅抛光生产线,该生产线投产后,废水排放量将大大的增加.现有的废水处理站的处理能力已不能满中要求.加之原处理站的处理较果不稳定.因此必须进行治理.因此在原有设
2、施的基础上对废水处理站进行改造. 2执行标准 执行标准GB8978-1996<污水综合排放标准>一级.即PH=6-9.COD≦100mg/ SS≦70mg/l 3现废水处理站的现状 3.1现废水处理站接纳废水的水质及水量 现废水处理站接纳三个部位的废水,经均化调节后进行处理.废水的来源水质.水量见表 废水来源及水质水量废水来源水量(m3/d)水 质PHCOD(mg/l)SS(mg/l)多晶硅600＜2300100--150切.磨.抛600--8006100--150200有机硅200＜3200
3、--300100--150混合后1400--1600＜3200--250150--200 3,1.1废水的特点 废水产生的部门不同,其特点各异 1.多晶硅废水:是三氯硅烷还原生成多晶硅过程中产生的尾气经水淋洗产生的.主要反应为: SiHCl3+H2---Si+HCl (产品反应) SiHCl3+H2O---SiO2+HCl(尾气淋洗) 废水中主要物质为:SiO2.HCl硅醇及脱水成聚硅氧烷和硅酸,偏硅酸等.废呈强酸性,SiO2的粒径极小,大部分聚成团漂浮的水面. 2. 切.磨.抛废水来自三个工
4、序:(1)切片工序主要为:粘石腊,冷却水等,废水中主要物质为:石腊,硅粉.(2)磨片工序的磨液成分为:洗液和肥皂制成浮液.废水中主要物质为:表面活性剂.硅粉.(3)抛光工序的抛光液的成分:环烷烃,废水中主要物质为:硅粉和烃类有机物.三种废水混合中灰色有乳状体. 3. 有机硅废水是:由氯丙烷在铂酸作催化剂的条件下,与三氯硅烷加成反应生成氯丙基三氯硅烷然后经粗精馏后产生的残液和氯丙烯瓶中的残液,用水冲洗产生的,废水中主要物质为:三氯硅烷,氯丙烷和HCl.氯丙烷和HCl的来源是氯丙烯水解产生的,故废水呈酸性,反
5、应式为: CH2=CH-CH-CH2Cl+H2O----CH2=CH-CH2-OH=H2O 三部分废水混合后,废水呈酸性,灰的色乳状有降低(强酸有一定的破乳性),但有胶体存在,主要是硅酸,偏硅酸和硅醇分子间脱水聚缩而成聚硅氧烷引起的. 3.2处理工艺流程及出水水质 3,2.1处理工艺流程 3.2.2,出水水质 废水经过上述工艺流程处理的出水水质为: PH=6-9 COD=100—160mg/l SS=40—60mg/l BOD值在5--10mg/l之间,有时为零,COD时常超标. 3.
6、3存在问题及分析 3.3.1根据现废水处理站运行情况,存在问题 1:石灰乳配制及投加不定,混合池混合不充分,混合效果差. 2:药剂投加设施定量尾差,药剂消耗量大. 3:COD出水超标,污泥量大. 4:处理成本高,处理吨水仅药剂费用平均1元. 3.3.2:COD超标分析 根据出水水质分析,COD超标.而BOD值很低说明该废水的可生化性差,造成出水COD超标的原因是废水中存在多价态的无机物处在低价态和少量有机物所致,分析化验COD时加入氧化剂氧化有机物同时也氧化低态的无机物,故引起起废水中COD超
7、标. 4:改扩建后废水方案 4.1:改扩建后废水水质,水量及处理规模 4.1.1新增废水的水量,水质 新增废水来源为切.磨.抛,清洗工序,其废水水量为1000m3/d,水质为:PH=6.COD=100--150mg/l SS=200mg/l 4.1.2:改扩建后废水水质,水量 废水总水量为:2000----2600m3/d, 水质为:PH＜4.COD=200--250mg/l SS=200mg/l 4.1.3处理规模 设计处理能力:Q=150m3/h. 4.2废水处理方案设计 4.2.
8、1废水处理方案设计的原则 1先进行综合利用,减少排污量. 2工艺先进合理,保证达标排放. 3充分利用原有处理构筑物及设备,减少投资. 4运行费用低,管理方便. 4.2.2综合利用方案 1白炭黒(SiO2)回收 多晶硅废水是三氯硅烷还原生成多晶硅过程中产生的尾气经水淋洗产生的,废水中漂浮大量的白沫子,而白沫子就是白炭黒(SiO2).它的粒径很小属纳米级.它的产生过程基本上和气相法物产白炭黒相同.用水刚
