PVD与NCVM制程介绍.ppt

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1、PVD與NCVM製程介紹講師陳建佳一、PVD原理介紹二、NCVM介紹三、PVD與NCVM常見的不良項目四、注意事項PVD與NCVM製程介紹課程內容：A.何謂PVD？PVD(PhysicalVaporDeposition)物理氣相沉積法，顧名思義此種薄膜形成的方式乃利用外力(能量)，使靶材(Target=Al)由固體變成氣體，慢慢堆積在物體(Substrate=PCKey)表面，形成均勻的薄膜。此薄膜本質上透過物理性變化，所以製程前後靶材性質變無改變，依據公司案例，我們將鋁靶變成鋁膜，製程前後仍然是鋁。一、PV

2、D原理介紹B.PVD的種類PVD製程一般常見三種方法：1.蒸鍍(Evaporation)2.濺鍍(Sputtering)3.離子鍍(Ion-Plating)一.PVD原理介紹B.1蒸鍍EvaporationHeaterVacuumchamberMaterialSubstrateCloud一.PVD原理介紹B.2濺鍍CoatingAtoms/MoleculeTargetArgonGasCathode(-)SecondaryElectronsAnode(+)SubstratePlasma一.PVD原理介紹B.3離

3、子鍍靶材離子源離子束基板一.PVD原理介紹Ti+N2→TiN(x)△C.圓桶型蒸鍍機介紹一.PVD原理介紹爐式機台C.立式圓桶型蒸鍍機介紹靶材掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架靶材掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架上視圖一.PVD原理介紹C.圓桶型蒸鍍機介紹靶材被鍍物靶材被鍍物切面圖一.PVD原理介紹D.In-LineSputtering介紹一.PVD原理介紹連續式機台D.In-LineSputtering介紹SputteringChamberBufferChamberUnloadingChamberBuffer

4、ChamberLoadingChamberOutInLoULHiBuSpSpHiBuPlaInOut一.PVD原理介紹E.蒸鍍與濺鍍比較一.PVD原理介紹G.Sputtering應用1.外觀膜：金屬、非金屬、多層膜2.光學膜：抗反射、全反射、光柵3.功能膜：IRorUV隔絕、光學開關、EMI4.透明導電膜：ITO5.顯示器：OLED6.其他一.PVD原理介紹A.WhatisNCVMNCVM(Non-ConductiveVacuumMetalize)顧名思義，為一種非導電的真空金屬化鍍膜製程，或稱為非導電PVD

5、製程，由於一般PVD製程所用的金屬為優良導體，因此PVD金屬化都是導電的，NCVM採用特殊金屬，因此可做出具有金屬光澤同時具備非導電性質的薄膜。二、NCVM介紹B.WhyneedNCVM手機訊號(RF)收發時，若訊號碰到導體，則會受干擾造成訊號變差，甚至訊號無法穿透而無法作用，因此PVD製程會使訊號穿過按鍵時產生干擾。由於PVD製程能使塑膠表面變成金屬外觀，因此受客戶青睞，為了此外觀需求，於是我們開發NCVM製程，讓按鍵具有PVD金屬外觀，同時又不導電，一舉兩得。二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別a.

6、功能特性－NCVM不導電，不會阻礙訊號b.製程流程－相同（Primer－鍍膜－H/C）c.Primer需求－因靶材而異d.PVD靶材差異顏色差異膜厚差異透光差異二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別a.製程流程—相同二、NCVM介紹PVD製程PrimerPVDL/EUV(color)UVH/CNCVM製程PrimerPVDL/EUV(color)UVH/CC.NCVM與PVD的差別b.Primer需求PVD使用的靶材為鋁(Al)，NCVM使用的靶材為錫(Sn)或銦(In)，因此Primer材料必須思考與不

7、同金屬靶材的接著性，避免因接著不足而產生百格脫落問題。就靶材來說，鋁靶的接著效果是最穩定的。二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別c.PVD靶材差異★.種類差異：PVD常使用鋁(Al)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、不鏽鋼(SUS)。NCVM使用靶材錫(Sn)、銦(In)、硅鋁(SiAl)。二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別c.PVD靶材差異★.膜厚差異：PVD從很透光到不透光都可以。NCVM從很透光到半透光，現況無法做到不透光。二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別c.PVD靶材差異★.顏色差異：

8、PVD鋁顏色為銀白色PVD鎳顏色為銀色帶淡黃色PVD鉻顏色為銀色帶一點點黑(與電鍍顏色相似)PVD不鏽鋼顏色為銀色帶咖啡色NCVM錫顏色為銀色帶黑(比PVD鉻深一點)NCVM銦顏色為銀色帶一點點黑(與PVD鉻相似)NCVM矽鋁顏色為銀黑色(比NCVM錫更深)二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別c.PVD靶材差異二、NCVM介紹C.NCVM與PVD的差別c.PVD靶材差異★.正面噴塗配色差異：P