光学镀膜习题

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1、1、在膜系中，光学厚度为四分之一长中心波长的膜层，对中心波长的反射率没有影响。这个膜层称为虚设层。2、测量薄膜器件的反射率、透过率等光谱特性曲线的常用仪器为分光光度计。3、任何一个复杂的薄膜系统，其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效光学导纳进行计算。4、偏振中性分束棱镜的设计原理，利用的是光束倾斜入射时的偏振效应。5、在截止滤光片中，通常把抑制短波区，透射长波区的滤光片称为长波通滤光片。6、在截止滤光片中，通常把抑制长波区，透射短波区的滤光片称为短波通滤光片。7、光学真空镀膜机大多数是

2、热蒸发真空镀膜设备，主要由三大鄱分组成：真空系统、热蒸发系统、膜厚控制系统。8、光学真空镀膜机的膜厚控制系统通常包括光学膜厚控制仪、石英晶体振荡膜厚控制仪。9、光学膜厚控制系统对膜厚的监控是根据光学信号的极值点来判断膜层厚度。10、石英晶体振荡膜厚控制系统监控膜厚主要是利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效应。11、光学薄膜制备过程中常用的热蒸发方式为电阻蒸发、电子枪蒸发。12、光学真空镀膜机中用于测量真空度的仪器是真空计，包括电偶真空计和电离真空计两种。13、影响薄膜器件光学性能的膜层光学参数是膜

3、层的折射率和厚度，通称为光学常数。14、提高薄膜沉积速率的方法主要有两种：①提高蒸发源的温度；②增大蒸发源的面积。15、修正挡板是为了保证不同位置膜层厚度的均匀性。16、薄膜的应力包括压应力和张应力。17、在25℃条件下，平均自由程l与压强P之间的关系为：pl=O．667(cm·Pa)．18、在热蒸发制备光学薄膜的过程中，薄膜的附着力、致密度往往比较差，为了改善薄膜的品质，常采用的方式是离子辅助沉积。19、膜层与基底组合的特征矩阵，其中称为膜层的特征矩阵。20、介质的光学导纳，其中，称为自由空间光

4、学导纳。21、Y=H／E，介质中沿K0方向传播的电磁波的磁场强度与电场强度之比等于所在介质的光学导纳。22、对于无吸收膜系有T+R=1，对于有吸收膜系A+R+T=1。23、光学零件的表面反射会在光学系统中导致两个严重的后果：①光能量的损失。使像的亮度降低。②杂散光的干扰会导致分辨率的降低24、单层增透膜存住问题有哪些?1、v形减反射效果只能实现单一波长零反射，色中性差：2、对于常用的玻璃基低，满足的膜料不一定存在，很难实现零反射。25、反射膜反射带的带宽、反射率跟那些因素有关?这些因素有怎样的影响

5、效果？与构成对多层膜的两种膜料的折射率有关，两种折射率差值越大，高反射带越宽。26、反射带的油靠宽度、波长宽度有哪些特点?1、所有高反射带的波数带宽度均相等。2、各高反射带的波长带宽并不相等，波数越大对应的高反射带波长宽度越窄。27、金、银、铝金属反射膜的特征、波段涵盖区域、附着能力情况？1、高反射波段非常宽阔，已经可以覆盖几乎全部光频范围。当然，就每一种具体的金属而言，它都有自己最佳的反射波段。2、各种金属膜层与基低的附着能力有较大的差距，例如：，Al，Cr，Ni与玻璃的附着牢固：而Au，Ag与

6、玻璃附着能力较差。3、金属膜层的化学稳定性较差，易被环境气体腐蚀。4、膜层软，易划伤。28、金属-介质反射膜的特点优点是：结构简单，制造容易：缺点是：无法实现接近100%的反射率。在大功率激光系统中，金属膜层的吸收将导致膜层被烧伤而无法使用。29、滤光片的定义、分类1）干涉截止滤光片：利用多光束干涉原理，让某一波长范围的光束高透，而让偏离这一波长区域的光束变为高反的光学膜片。2）种类：（一）根据原理:吸收型,薄膜干涉型,吸收与干涉组合型（二）根据光谱曲线：长波通滤光片,短波通滤光片,带通滤光片30

7、、反热镜p46是一种特殊的短波通滤光片，它能抑制红外光，透射可见光，截止波长为0.7um。透射光不影响彩色平衡。反热镜常用吸热玻璃加渡膜系制造。31、PVD是物理气相沉积，CVD是化学气相沉积,CLD化学液气相沉积32、光学真空镀膜机构造主要由真空系统、热蒸发系统、膜层厚度控制系统组成33、热蒸发系统光学真空镀膜机中设置有电阻热蒸发电极两对，电子束蒸发源一个或两个。电阻热蒸发电极用于蒸发低熔点材料，电子束蒸发高熔点材料。34、膜厚控制系统光学镀膜机的膜层厚度控制系统有两大类：1、是石英晶体膜厚仪，

8、是基于石英晶体振荡频率随膜层厚度增加而衰减的原理进行侧厚的，它测量的是膜层的几何厚度。2是光学膜厚仪，它以被渡零件的光透射或反射信号随膜层厚度的变化值作为测量厚度的依据，测量的是膜层的光学厚度。这两种方法的用于光学膜层厚度控制，都有很高的测量精度。需要注意的是：光学膜厚仪控制的是光学厚度，光电膜厚仪的灵敏度比较低；石英晶体膜厚仪测量的是几何厚度，但测量灵敏度为0.1mm。36、PVD对真空度的基本确定原则“是气体分子平均自由程大于蒸发源到被渡件之间的距离”37、真空的检测————真