镀膜设备中常用离子源介绍

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1、陈智顺2018-8-23CONTENT技术起源原理及分类主要应用主要应用主要应用无栅离子源无栅离子源霍尔离子源工作原理：工作气体或反应气体由阳极底部进入放电区内参与放电，放电区内由磁铁产生如图所示的锥形磁场，在放电区的上部安装有补偿或中和阴极。根据工作要求该型号离子源的工作气体为氩气，反应气体可以使用氮气、氧气或碳氢等多种气体。放电区上部阴极灯丝加热后产生热电子，当离子源的阳极施以正电位+UA时，电子在电场作用下向阳极运动，由于磁场的存在，电子绕磁力线以螺旋轨道前进，与工作气体或反应气体的原子发生碰撞使其离化。离子在霍尔电场的作用下被加速获得相应的

2、能量，与灯丝热阴极发射的部分热电子形成近等离子体，由等离子体源发射出来与基片发生作用达到清洗和辅助镀膜的目的。•使用钨丝作为中和阴极•结构简单、工作可靠•维护简单，运行成本低廉•工作时钨丝挥发•存在微量污染•钨丝寿命小于50小时•离子能量约为阳极电压的65%~70%ev霍尔离子源霍尔离子源霍尔离子源霍尔离子源霍尔离子源•离子源用途：用于真空镀膜过程中基底离子轰击清洁及沉积过程中离子轰击能量输送。广泛应用于：增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器、在线清洗、类金刚石沉积等；•作用能够改善薄膜的生长、优化薄膜结构，增加镀膜

3、的一致性和重复性，低温高速率镀膜，清除工件表面水和碳氢化合物，增加薄膜密度，降低内应力低，清除结合力弱的分子，反应气体活度增加，薄膜成分易于控制；阳极层离子源阳极层离子源阳极层离子源阳极层离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源栅网型离子源考夫曼离子源考夫曼离子源考夫曼离子源考夫曼离子源考夫曼离子源考夫曼离子源考夫曼离子源考夫曼离子源射频离子源射频离子源射频离子源射频离子源射频离子源等离子体源ICP离子源ICP离子源ICP离子源ICP离子源

4、CCP离子源CCP离子源CCP离子源CCP离子源离子源电源离子源电源结束语End！Thankyou！