浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展

浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展

ID:46543399

大小:5.30 MB

页数:9页

时间:2019-11-25

浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展_第1页
浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展_第2页
浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展_第3页
浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展_第4页
浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展_第5页
资源描述:

《浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、浅淡平面高赝VDMOS_7:艺平台发展电子质量(2014第03期)测试测量技术浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展SimpleIntroducetheTechnologyDevelopmentofVDMOS鄢细根(华越微电子有限公司,浙江绍兴312000)YanXi-gen(HuaYueMicrt~lectronicsCO,LTD.,ZhejiangShaoxing312000)摘要:该文从国内生产线的实际出发,简单介绍了目前国内主流功率VDMOS器件生产厂家所采用的平面高压VDMOS工艺平台,初步总结了当前各种成

2、熟工艺平台具有的特点与优点,希望该文有助于闰内同行之间相互借鉴与提高,目的是促进民族工业不断向前发展。关键词:VDMOS—艺平台;元胞;主结;终端结构;分压环;场板;空间电荷区;PN结;EAS中图分类号:TN432文献标识码:B文章编号:1003—0107(2014)03—0001—09Abstract:Proceedingfromactualconditionsofthedomesticchipmanufacturingproductline.MainstreammanufacturersofpowerVDMO

3、S.andthetechnologyplatformofhighvoltageplanarVDM0Swereintro—ducedintheaflicle.Itsfeaturesandadvantagesofthethecurrentmaturetechnologyplatformweresum—marizedprimarily.wehopedthatthisartidehelpsdomesticcounterpartstolearnfrOmeachotherandtomakeprogress,withthepu

4、rposeofpromotingthecontinuousdevelopmentofnationalindustryKeywords:Thetechnologypla#ormofVDMOS;CelI;Mainjunction;Terminalstructure;FieldIimilingring;Fieldplate;Spacechargeregion;PNjunction;EAS(EnergyAvalancheStress)CLCnumber:TN432Documentcode:BArticleID:1003—

5、0107(2014)03—0001—090引言艺,并且只限于平面高压设计产品介绍。为了让初学者对技术的发展有直截了当的掌握,笔者按照工艺的发VD—MOSFET(verli(aldouble—difused~MOSFET)功率展和技术的成熟度直接划分了种不同的。艺平台,场效应器件是近几年迅速发展起来的新型功率器件,与分别是:第一代艺平台、第二代工艺平台和第代_T双极功率器件相比,它具有许多优良特性:高输入阻抗,艺平台。低驱动电流,开关特性快,具有负温度系数,并有良好的特别指出,此种划分并非是严格意义上的技术标电流自

6、调节能力,热稳定性好日前广泛应用于开关电准,只是有利于笔者分别做出介绍,有利于全文的展开。源、马达驱动、电机调速、不间断电源、逆变器等各种电力电子设备中。『}1于目前技术成熟,国内主要的五、六英1VDMOS基本结构与原理简介寸线,甚至八英寸线都在大量生产,改变了以前产品主要从旧外进¨的历史,甚至部分产品还大量出口到国外完整的VDMOS结构是南元胞,主结和终端■部分市场,为伞社会节能降耗、产品升级换代做出了重大贡组成,元胞结构如图l所示。献,取得了良好的经济与社会效益。不过,由于VDMOS1.1器件的主要制造过程产

7、品技术发展非常迅速,各种各样的新工艺、新设计不断涌现,令人眼花缭乱,加卜国内外不同设计制造公司先在重掺杂N+衬底生长一层N型处延层,由P对各自产^采取不同的分类标准,导致行业内产品分类型BODY区与N+源区的两次横向扩散结深之差形成五花/kl'J,不利于初学者、尤其是刚入行的T程师迅速沟道,这两个区域在离子注入过程中都是通过多品栅自掌握VDMOS产品的特点。鉴于此种背景,笔者从自身对准工艺注入各自的掺杂杂质的。微薄的经验与知识出发,浅显地介绍了当前主流的高压1.2器件主要工作原理平面VDMOS产品所采用的1一艺加

8、_丁平台,不涉及到任当不加栅压,漏极加正偏压时,VDMOS结构可以承何Trench_r艺,Coolmos丁艺以及其它所谓的先进工作者简介:鄢细根(1972一),男,华越微电子有限公司硅片制造一厂副厂长、工程师,本科.主要从事Ic代技术支持,新J艺平台开发,各类分立器件设计、研发制造、产品应用I作.主要包括vDM0S,IGBr,sBD,FRED,CRD系列。浅谈半嘲高VDM

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。