《道光罩制程》PPT课件

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1、TFT-LCD製程簡介日期88年8月25日時間13:20~15:20講師謝經國,熊明德液晶顯示器(LCD)之用途聯友光電FAB-1六道光罩PANELLCLCMFAB-2五道光罩ARRAYCELLMODULE一廠二廠投片,清洗,薄膜,黃光,蝕刻,測試清洗,配向,框膠,熱壓,切裂,注入磨洗貼,FPC,COG,組裝,燒機,F/I投片,清洗,薄膜,黃光,蝕刻,測試清洗,配向,框膠,熱壓,切裂,注入磨洗貼FPC,COG,組裝,燒機,F/I工廠概況甚麼是TFT-LCD?TFT----薄膜電晶體ThinFilmTr

2、ansistorLCD----液晶顯示器LiquidCrystalDisplayTFT-LCD剖面圖上偏光板下偏光板保護膜玻璃基板顏色區黑色框罩框膠區電晶體液晶ITO共用極ITO顯示電極背光燈管反射板菱鏡板光擴散板印刷電路板驅動IC驅動IC異方性導電膜補償電容間隙粒子TAB導光板GATE閘極SOURCE源極DRAIN汲極ITO畫素電極液晶分子CRYSTALCF彩色濾光膜B.L背光一個電晶體(顯示單位)動作示意圖液晶作動原理偏光板作用及液晶旋光性介紹一個電晶體顯示電路示意圖DatadriverScand

3、river認識ArrayUnipac製程簡述ArrayThin-FilmTransistorCellLiquidCrystalModuleArray:電晶體矩形陣列Cell:顯示單元體Module:產品模組TFT空白玻璃CELLMODULE….+面背ARRAY+++機TFTCF外購一廠:320*400(mm)二廠:610*720(mm)cellcellcellcellcellcellcell鍍膜(sputter,cvd)上光阻(coater)光罩(reticle)顯影(developer)顯影液對準,

4、曝光(stepper)蝕刻(etch)去光阻液stripper去光阻酸,氣體TFT循環製程圖解鍍下一層膜上光阻(coating)鍍第一層膜空白玻璃酸A或氣體A光罩TFT循環製程圖解1對準,曝光(stepping)顯影液顯影(developing)蝕刻(etching)顯影TFT循環製程圖解2去光阻液A去光阻(striping)鍍第二層膜上光阻對準,曝光光罩顯影液酸B或氣體B蝕刻TFT循環製程圖解3去光阻液B光阻剝離鍍第三層膜,請依之前所示範的方法舉一反三,自行模擬想像FABⅠARRAY之六步驟Cr1.

5、Gate閘極SIN2.絕緣層Via3.ViaITO4.畫素電極ITOAl/Cr5.源極/汲極(SOURCE/DRAIN)Passivation6.護層PassivationFABIIARRAY之五步驟TI/AL/TIS-I-NTI/AL/TIPASSIVATION1.鍍上鈦鋁鈦合金(GATE)2.S:SiNx(氮矽化合物,絕緣層)I:α-Si(非結晶矽,通道層)N:N+(歐姆接觸)3.鍍上鈦鋁鈦合金(source,drain)4.鍍上5.鍍上ITO(銦錫氧化物,透明畫素電極)(ITO是透明又會導電的物

6、質)SiNx保護層及做VIA層ITO1.GE層2.AS層3.SD層4.BP層5.TI層五層合一FABII五道光罩的圖型玻璃基板A1A2GE(Ti/Al/Ti)AS(SiNx)AS(-Si)AS(N+)SD(Ti/Al/Ti)BP(SiNx)TI(ITO)Gate(GE)SIN(AS)Source/Drain(SD)Passivation(BP)ITO(TI)電晶體剖面圖玻璃基板B1B2GE(Ti/Al/Ti)AS(SiNx)SD(Ti/Al/Ti)BP(SiNx)TI(ITO)Gate(GE)SIN

7、(AS)Source/Drain(SD)Passivation(BP)ITO(TI)補償電容剖面圖ARRAY製程簡圖薄膜Thin-Film(不含VIA層)黃光區Photo清洗檢查顯影Developing檢查ADISputtering薄膜濺鍍PECVD化學氣相沉積對準SteppingAligner(Canon)上光阻CoatingTI/AL/TI,S-I-N,TI/AL/TI,PASSIVATIONITO測試區TestingCELL段測試Testing修補Repair蝕刻區Etch重複循環溼蝕刻/乾蝕刻

8、Wet/Dry去光阻Strip檢查AEI檢查AEITEG退火Anneal灰化ASH放大彩色濾光膜610mm720mm甚麼是畫素(PIXEL)?一個可以顯示出所有顏色的單位稱作:畫素---PIXEL一個畫素含有三分割---紅,綠,藍(R,G,B)每一個分割叫做子畫素(SUB-PIXEL)畫素子畫素基礎色彩學介紹白=紅+綠+藍紫=紅+藍黃=紅+綠青=綠+藍加法系統(混合光)紅藍綠黃白紫青乘法系統(過濾法-顏料)紅藍綠黃黑青紫深紅黑=黃*青*深紅紅=黃*深紅綠

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