超声波清洗作业指导书

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1、半自动清洗作业指导书编制（修改"日期审核/日期批准/日期修改记录修改历史记录生效日期版本/次变更说明编制/修改批准一、目的：本工序是将脱胶完成装进花篮的硅片进行表面超声波清洗，以去掉硅片表面的油污。二、适用范本文件只适合浙江光科新能源硅片加工车间半自动超声波清洗工序。三、物料需求:1、装进花篮待清洗的硅片;四、工艺流程：装片一►鼓泡（超声）一►超声波清洗一►纯水清洗——►甩干5.1打开纯水阀门，分别给机器清洗槽内加水（水槽内全是15M纯水），三、四•五槽内水位加至110L；5.2打开“电源”、“加热”、“超声”开关，检查设备运行状态

2、是否正常；5.3将半自动清洗机的水槽内加入清洗剂802#或JH・15型。方法如下：四//i.JH-15A2400ml2400mlB1200ml1200ml注意；在添加清洗液时戴好手套，将桶口察干净，以免有杂质影响清洗质量。5.4将插好片的花篮并排放进清洗机的提篮内，每提篮内放六个花篮（见图一），图一5.5等清洗机水温升至设定温度后，把一、二、六、七槽的溢流打开，使槽内水保持清洁，然后将提篮放入第一个清洗槽内，启动“摆动”开关和“超声波”开关，并打开一、二椚“鼓泡”开关（三至七槽不开鼓泡），第一椚时间结束后将提篮移至第二椚，第二槽结束

3、后，将捉篮移至第三槽；重复以上动作直到七个清洗槽全部洗完毕；注意：硅片从一个清洗槽移至另一个清洗槽要垂直提取、垂直轻放，避免碰碎或造成裂片。5.6清洗完成后将硅片连同插片花篮横向放置装入甩干机内，花篮摆放必须保证平衡,要求对称放置；（见图二）图二5・7双手同时按控制面板两边的红色“关门”按钮，待门完全关闭后，按绿色“启动”按钮甩干，甩干过程为260秒，温度120±5°C；待控制面板上的时间归零，按开盖按钮;5.8开盖后将花篮拿出；将甩干后的硅片整齐地摆放到硅片周转台上待检，用完的花篮、提篮整齐摆放在指定区域；5.9每次更换清洗液后，

4、用温度计测量升温后的水槽内温度是否与设定值一致，温差范围在土2°C；5.10工艺参数设置表：第一槽第二槽第三槽第四槽第五槽第六槽第七槽甩干机半温度45±5°50±5°50±5°50±5°50±5°45±5°50±5°120°口动时间360秒360秒360秒360秒360秒360秒360秒260秒注意:整个清洗过程中，严禁花篮、提篮摆放在地上。六、技术规格和标准:环境要求：1.湿度W55%RH；2.温度23±3°C；附件：无要求;